Sputtertarget

Zirkonium-Rotationssputtertargets

Zirkonium-Rotationssputtertargets Beschreibung: Zirkoniumrotationssputtertargets werden nach einer Reihe von Verarbeitungsprozessen aus hochreinem Zirkoniummaterial mit einer spezifischen Größe und

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Planares Ziel aus Zirkonium 702

Zirkonium 702 Planar Target Beschreibung Zirkonium ist ein metallisches Element mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit, hohem Schmelzpunkt und guten mechanischen Eigenschaften, wodurch es in

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Runde Zielscheibe aus Zirkonium 702

Zirkonium 702 Round Target Beschreibung Zirkonium ist ein glänzendes grauweißes, starkes Übergangsmetall, das in der Nuklearindustrie und der Luft- und Raumfahrt weit verbreitet ist. Zirkonium 702

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Sputtertargets aus 99,95 % Zirkonium

99,95 % Zirkonium-Sputtertargets Beschreibung Magnetron-Sputtern ist eine neue physikalische Dampfbeschichtungsmethode, bei der mithilfe eines Elektronenkanonensystems Elektronen emittiert und auf

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Hochreine Titantargets

Hochreine Titanziele Beschreibung: Titan ist ein paramagnetisches feuerfestes Metall mit großer Zähigkeit und hoher Festigkeit, insbesondere in einer sauerstofffreien Umgebung. Bei Zielobjekten gilt:

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Hochreines Chrom-Sputtertarget

Hochreines Chrom-Sputtertarget Beschreibung Chrom ist ein stahlgraues, glänzendes, hartes und sprödes Übergangsmetall. Hochreine Chrom-Sputtertargets werden im Allgemeinen durch Vakuumschmelzen oder

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Sputtertargets aus 99,5 % Bor

Beschreibung der 99,5 % Bor-Sputtertargets Das Beschichtungstarget ist eine Sputterquelle, die durch Sputtern unter geeigneten Prozessbedingungen durch Magnetronsputtern, Multibogen-Ionenplattieren

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Molybdän (Mo) Sputtertargets

Beschreibung der Molybdän (Mo)-Sputtertargets Als hochmoderne Technologie zur Herstellung von Dünnschichtmaterialien weist das Sputtern zwei Eigenschaften auf: „hohe Geschwindigkeit“ und

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Titan-Metallziel

Titan-Metall-Target Beschreibung: Titan-Metall-Target wird hauptsächlich durch das Elektronenstrahl-Kühlschmelzverfahren hergestellt. Es weist eine hohe Reinheit, eine hohe spezifische Festigkeit,

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Nickelmetall-Sputtertargets

Beschreibung der Nickel-Metall-Sputtertargets: In der Industrie wird Nickel häufig bei der Legierungsherstellung, der Batterieproduktion und als Katalysator verwendet. Insbesondere im Bereich der

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Sputtertargets aus Chrommetall

Beschreibung der Chrommetall-Sputtertargets Chrom hat einen hohen Schmelzpunkt und eine gute Oxidationsbeständigkeit, sodass das Chromtarget in Umgebungen mit hohen Temperaturen stabil bleibt.

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Sputtertarget aus TiAl-Titanlegierung

Beschreibung des Sputtertargets aus TiAl-Titanlegierung. Sputtertarget bezieht sich auf das Rohmaterial, das im Sputterabscheidungsprozess verwendet wird. Es bezieht sich auf den Prozess, bei dem

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