Sputtertarget

Titan-Aluminium-Sputtering-Target

Titan-Aluminium-Sputtering-Target Beschreibung Das Sputtering-Target bezieht sich auf das Rohmaterial, das im Sputtering-Abscheidungsprozess verwendet wird, der sich auf den Prozess des Ausstoßens

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Iridium-Ziel

Material:Ir. Reinheit:Größer oder gleich 99,99 % (4N). Dichte:22,56 g/cm³. Durchmesser:Φ Größer oder gleich 20 mm. Dicke:1-15 mm oder individuell. Breite:10–150 mm. Länge:10–300 mm.

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Aluminium-Silizium-Sputtertarget

Aluminium-Silizium-Sputtertarget ist ein Legierungs-Sputtertarget aus Aluminium und Silizium, das hauptsächlich in PVD-Prozessen (Physical Vapour Deposition) verwendet wird. Durch Techniken wie

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Bor B Ziel

Das Bor B-Ziel ist ein hochreines Metall-Zielmaterial, das in PVD- oder CVD-Prozessen verwendet wird. . Es besteht aus Bor als Hauptkomponente und wird zu einem dichten Block durch Pulvermetallurie

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Platin -Metallziel

Das Platin-Metall-Ziel ist ein funktionelles Material aus hoher Purity-Platin (PT) als Rohstoff mit einem hohen Schmelzpunkt, einer starken Korrosionsbeständigkeit, einer hervorragenden elektrischen

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Cobalt -Chrom -Wolframziel

Cobalt -Chrom -Wolframziel ist eine Art Metallziel, das zum Sputterbeschichtung verwendet wird. Es besteht aus Kobalt-, Chrom-, Wolfram- und anderen Metallelementen mit hervorragender

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99,99% Reinheit Nickel Ni Sputtering Ziele

99,99% Reinheit Nickel Ni Sputter -Ziele sind Sputterziele aus hohen Reinheit Nickelmaterialien mit guter elektrischer Leitfähigkeit, thermischer Leitfähigkeit, Korrosionsbeständigkeit und

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Yttrium -Aluminiumoxid -Sputterziele

Yttrium -Aluminiumoxid -Sputter -Ziele sind eine Art Keramikziel aus Yttriumoxid und Aluminiumoxid durch einen bestimmten Prozess. Sie werden häufig in optischen Instrumenten, elektronischen

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Aluminium -Silizium (Al/Si) Sputternziele

Aluminium -Silizium -Sputterziele (Al/Si) sind Legierungsziele aus Aluminium und Silizium. Sie können hohen Temperaturen und Ionenbombardierung während des Sputterns standhalten, um einheitliche,

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Aluminium Silicon Round Target

Aluminium Silicon Round Target ist ein Legierungsziel aus hochreinem Aluminium-Siliziummaterial durch Präzisionsverarbeitungstechnologie. Es spielt eine wichtige Rolle in vielen Bereichen wie

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ZR702 Zirkoniumziel

Zr702 Zirconium Target is a high-purity round target made of zirconium, which has high strength, good chemical stability, strong electrical conductivity and thermal conductivity, etc. It can be used

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99,95% reine NB2O5 -Ziele

99,95% reine NB2O5-Ziele sind Sputterquellen, die durch Magnetron-Sputtern, Multi-ARC-Ionenbeschichtung oder andere Arten von Beschichtungssystemen unter geeigneten Prozessbedingungen verschiedene

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Wir sind als einer der führenden Hersteller und Lieferanten von Sputtertargets in China bekannt. Wenn Sie ein qualitativ hochwertiges Sputtertarget zu einem wettbewerbsfähigen Preis kaufen möchten, erhalten Sie gerne ein Angebot von unserer Fabrik. Außerdem ist ein maßgeschneiderter Service verfügbar.

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