Sputtertarget

PVD-Targets aus Titan-Aluminium-Legierung

Beschreibung der PVD-Targets aus Titan-Aluminium-Legierung Das Beschichtungstarget ist eine Sputterquelle, die durch Sputtern unter geeigneten Prozessbedingungen durch Magnetronsputtern,

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Rundes Sputtertarget aus Bor

Rundes Sputtertarget aus Bor Beschreibung: Das runde Sputtertarget aus Bor ist ein Material, das zur Filmvorbereitung verwendet wird. Es wird aus Boridmaterialien durch Pulvermetallurgie (Pressen von

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Planares Sputtertarget aus Chrom

Eigenschaften und Anwendung des planaren Chrom-Sputtertargets Das ursprüngliche Chromelement muss durch eine Reihe von Prozessen wie Hochtemperaturschmelzen, Raffinieren und Elektrolyse gereinigt

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99,95-prozentiges Chrom-Sputtertarget

Merkmale und Anwendung des 99,95-prozentigen Chrom-Sputtertargets Das 99,95-prozentige Chrom-Sputtertarget ist ein hochreines Metalltarget, mit dem verschiedene Materialien mit hervorragenden

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Runde Targets zum Sputtern von Chrom

Runde Targets zum Sputtern von Chrom Beschreibung Chrommetall wird hauptsächlich als Rohstoff für die Herstellung verschiedener Legierungen verwendet. Bei der industriellen Herstellung von

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Runde Ziele aus Titan-Chrom-Legierung

Runde Targets aus Titan-Chrom-Legierung können zur Herstellung von Substraten oder Oberflächenbeschichtungen verwendet werden und können in den Bereichen mechanische Messer, Automobil- und

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Planares Titan-Chrom-Target

Das Titan-Chrom-Planar-Target eignet sich sehr gut zum Sputtern korrosionsbeständiger und verschleißfester Beschichtungen, die Geräte schützen können, die in stark korrosiven chemischen Umgebungen

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Titan-Aluminium-Sputtertargets

Titan-Aluminium-Sputtertargets weisen die hervorragenden Eigenschaften von metallischem Titan und metallischem Aluminium auf, wie z. B. hohe Duktilität, hohe Verschleißfestigkeit, hervorragende

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Titan-Aluminium-Targets

Titan-Aluminium-Targets können die Härte und Lebensdauer von Schneidwerkzeugen verbessern und werden häufig in Hardware-Werkzeugbeschichtungen, dekorativen Beschichtungen, Flachdisplaybeschichtungen,

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Titan-Ti-Sputtertarget

Titan-Ti-Sputtertargets werden häufig zur Sputterabscheidung von reinem Titanfilm oder zur reaktiven Sputterabscheidung von TiN-Filmen verwendet und hauptsächlich als Diffusionsbarriereschicht

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Ziele aus 99,99 Prozent reinem Titan

Targets aus 99,99 Prozent reinem Titan bieten nicht nur die Vorteile hoher Reinheit, guter Verschleißfestigkeit, langer Lebensdauer und hoher Beschichtungsqualität, sondern umfassen auch alle

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Titan-Silizium-Sputtertargets

Titan-Silizium-Sputtertargets Beschreibung Titan-Silizium-Sputtertargets können Nitrid-Hartstoffschichten mit hervorragenden Eigenschaften liefern, da Silizium eine hohe Oxidationsbeständigkeit

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