Sputtertarget aus Metall

Titan-Aluminium-Sputtering-Target

Titan-Aluminium-Sputtering-Target Beschreibung Das Sputtering-Target bezieht sich auf das Rohmaterial, das im Sputtering-Abscheidungsprozess verwendet wird, der sich auf den Prozess des Ausstoßens...

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Iridium-Ziel

Material:Ir
Reinheit:Größer oder gleich 99,99 % (4N)
Dichte:22,56 g/cm³
Durchmesser:Φ Größer oder gleich 20...

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Aluminium-Silizium-Sputtertarget

Aluminium-Silizium-Sputtertarget ist ein Legierungs-Sputtertarget aus Aluminium und Silizium, das hauptsächlich in PVD-Prozessen (Physical Vapour Deposition) verwendet wird. Durch Techniken wie...

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Bor B Ziel

Das Bor B-Ziel ist ein hochreines Metall-Zielmaterial, das in PVD- oder CVD-Prozessen verwendet wird. . Es besteht aus Bor als Hauptkomponente und wird zu einem dichten Block durch...

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Platin -Metallziel

Das Platin-Metall-Ziel ist ein funktionelles Material aus hoher Purity-Platin (PT) als Rohstoff mit einem hohen Schmelzpunkt, einer starken Korrosionsbeständigkeit, einer hervorragenden...

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Cobalt -Chrom -Wolframziel

Cobalt -Chrom -Wolframziel ist eine Art Metallziel, das zum Sputterbeschichtung verwendet wird. Es besteht aus Kobalt-, Chrom-, Wolfram- und anderen Metallelementen mit hervorragender...

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99,99% Reinheit Nickel Ni Sputtering Ziele

99,99% Reinheit Nickel Ni Sputter -Ziele sind Sputterziele aus hohen Reinheit Nickelmaterialien mit guter elektrischer Leitfähigkeit, thermischer Leitfähigkeit, Korrosionsbeständigkeit und...

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Aluminium -Silizium (Al/Si) Sputternziele

Aluminium -Silizium -Sputterziele (Al/Si) sind Legierungsziele aus Aluminium und Silizium. Sie können hohen Temperaturen und Ionenbombardierung während des Sputterns standhalten, um einheitliche,...

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Aluminium Silicon Round Target

Aluminium Silicon Round Target ist ein Legierungsziel aus hochreinem Aluminium-Siliziummaterial durch Präzisionsverarbeitungstechnologie. Es spielt eine wichtige Rolle in vielen Bereichen wie...

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ZR702 Zirkoniumziel

Zr702 Zirconium Target is a high-purity round target made of zirconium, which has high strength, good chemical stability, strong electrical conductivity and thermal conductivity, etc. It can be...

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99,95% reine NB2O5 -Ziele

99,95% reine NB2O5-Ziele sind Sputterquellen, die durch Magnetron-Sputtern, Multi-ARC-Ionenbeschichtung oder andere Arten von Beschichtungssystemen unter geeigneten Prozessbedingungen verschiedene...

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Zirkoniumziel

Das Zirkoniumziel kann sputtern werden, um eine höhere Reinheit und mehr dekorative dekorative Beschichtung zu erzeugen, die hauptsächlich in Haushaltsprodukten, Haushaltsgeräten,...

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Wir sind als einer der führenden Hersteller und Lieferanten von Metall-Sputtering-Targets in China bekannt. Wenn Sie ein hochwertiges Metall-Sputtering-Target zu einem wettbewerbsfähigen Preis kaufen möchten, erhalten Sie gerne ein Angebot von unserer Fabrik. Außerdem ist ein maßgeschneiderter Service verfügbar.

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