Sputtertarget aus Metall

Titan-Silizium-Sputtering-Target

FANMETAL liefert das Titan-Silizium-Sputtertarget aus einer Ti-Si-Legierung, das in PVD-Beschichtungssystemen verwendet wird. Zusammensetzung der TiSi-Legierung: 85:15 % 80:20 % 75:25 % . Wir...

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Titan-Sputter-Target

FANMETAL liefert reines 99,999% Titan Sputtering Target. Reinheit von 99,5% bis 99,9999%. Derzeit ist für das 4-Megabit-VLSI die Reinheit von Titan erforderlich, um 4N5 (99,995%) ~ 5N (99,999%) zu...

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Zirkonium-Sputtering-Target

FANMETAL liefert das Zirkonium-Sputtering-Target, das im PVD-Beschichtungssystem verwendet wird. Material reines Zirkonium Zr702. Wir bieten auch andere Metalltargets und Verdampfungsmaterialien...

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Wolfram-Titan-Sputtering-Target

FANMETAL liefert das W-Ti-Legierungs-Wolfram-Aluminium-Sputtertarget, das in PVD-Beschichtungssystemen auf dem Gebiet der Halbleiter verwendet wird. Ti-Gehalt 10 % ~ 50 %, normalerweise liefern...

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Wir sind als einer der führenden Hersteller und Lieferanten von Metall-Sputtering-Targets in China bekannt. Wenn Sie ein hochwertiges Metall-Sputtering-Target zu einem wettbewerbsfähigen Preis kaufen möchten, erhalten Sie gerne ein Angebot von unserer Fabrik. Außerdem ist ein maßgeschneiderter Service verfügbar.