Überblick

Iridium Target ist eine Sputterquelle aus hoch-reinem Iridiummetall, dessen Kern für verwendet wirdphysikalische Gasphasenabscheidung (PVD)zur Herstellung hochtemperaturbeständiger, korrosionsbeständiger und äußerst stabiler Edelmetallfilme für Anwendungen in der Halbleiterindustrie, der Luft- und Raumfahrt, der katalytischen Verarbeitung, optischen Instrumenten und anderen Bereichen. FANMETAL verfügt über mehr als 20 Jahre Erfahrung in der Produktion und dem Export vonEdelmetallziele. Wenn Sie den detaillierten Preis erfahren möchten, kontaktieren Sie uns bitte jetzt per E-Mail.

Iridium-Funktionen

Ultra-hohe Reinheit

Die Reinheit kann 99,99 % bis 99,999 % (4N-5N-Qualität) erreichen, und die Gesamtmenge an Verunreinigungen wird unter 10 ppm kontrolliert, um die Stabilität der Stromübertragung und die Gleichmäßigkeit des Films sicherzustellen und durch Verunreinigungen verursachte Filmschichtdefekte zu vermeiden.

Hohe Temperaturstabilität

Es hat einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, behält die strukturelle Integrität in Umgebungen mit extremen Temperaturen bei, behält bei hohen Temperaturen einen geringen Wärmewiderstand bei und verhindert so wirksam Wärmestau und -verlust.

Korrosionsbeständigkeit

Iridium widersteht fast allen Säuren, Königswasser, geschmolzenen Metallen und Silikaten. Auf der Oberfläche bildet sich ein dichter Oxidfilm, der das äußere korrosive Medium effektiv isoliert und den Untergrund vor Erosion schützt. (Quelle)

Mechanische Eigenschaften

Hohe Dichte, hohe Zugfestigkeit, Vickers-Härte größer oder gleich 1670 HV, bei 2000 Grad hoher Temperatur bleibt die hohe Härte erhalten. Und es kann über einen langen Zeitraum verwendet werden, ohne die Umwelt zu belasten.

Bilder von Iridium-Targets

Iridium-Sputtertarget-Anwendung

1. Halbleiter- und Chipherstellung

Das Iridium-Sputtertarget wird verwendet, um ultradünne Barriereschichten zu erzeugen, die die Bewegung von Kupferionen in Siliziumsubstrate während der Herstellung von Halbleitern und Chips begrenzen. wird eine höhere Zuverlässigkeit bei Chip-Verbindungen ermöglichen; und kann mit einer Dicke von 0,5 - 3 nm gesputtert werden, um die Anforderungen hochdichter integrierter Schaltkreise mit feinen Strukturen zu erfüllen und so die Leistung der Geräte zu verbessern.

2. Elektronische Komponenten und Anzeigetechnik

Zu den Anwendungen gehören die Herstellung flexibler OLED-Displays zur Herstellung von Elektrodenschichten, die Herstellung von Mikrorelais- und Schalterkontaktmaterialien, die Herstellung empfindlicher Komponenten für hochpräzise Druck- und Temperatursensoren sowie die Primärelektrodenmaterialien für 5G-HF-Geräte. Iridium-Targets können die Effektivität der Signalübertragung erheblich verbessern, indem sie die Effizienz des Signals und die Genauigkeit der Messungen erhöhen.

3. Optische Instrumente

Aufgrund seiner reflektierenden Eigenschaften ist Iridium ein ausgezeichneter Kandidat für Reflexions-/Reflexionsbeschichtungen im mittleren - und fernen -Infrarot auf Infrarotdetektoren, Infrarotoptiken (Linsen) und Wärmebildprodukten. Darüber hinaus können Iridiumbeschichtungen aufgrund ihrer sehr glatten Oberfläche einen zusätzlichen Oberflächenschutz für hochwertige optische Systeme bieten, die rauen Umgebungsbedingungen ausgesetzt sind, um die Lebensdauer der Linsen zu verlängern.

4. Luft- und Raumfahrt

Infrarot-Fernerkundungs- und Infrarot-Bildgebungsgeräte von Satelliten und Raumsonden basieren auf Iridiummembranen, um eine hohe Infrarotreflexion und Stabilität der Weltraumumgebung zu erreichen. Iridium hat einen hohen Schmelzpunkt und eine ausgezeichnete Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und kann als Schutz- oder Funktionsfilm für Hochtemperaturkomponenten und motorbezogene Geräte-verwendet werden.

5. Energie und Katalyse

Iridium dient als Katalysator in Membran-Elektroden-Einheiten (MEAs), die in Wasserstoff-Brennstoffzellen verwendet werden. Die katalytische Aktivität und chemische Stabilität von Iridium steigern die Effizienz der Elektrolyse zur Erzeugung von Wasserstoff und reduzieren den Gesamtenergieverbrauch. Bei Verwendung als Anodenmaterial bietet Iridium im Vergleich zu anderen Materialien eine deutlich längere aktive Lebensdauer bei Chlor-Alkali-Anwendungen.

Verarbeitung

(1) Rohstoffvorbereitung: Wählen Sie hochreines Iridiumpulver mit einer Reinheit von mehr als 99,99 % zum Sieben und Entfernen von Verunreinigungen aus, um eine gleichmäßige Pulverreinheit und Partikelgröße sicherzustellen.
(2) Kaltpressen: Iridiumpulver wird in eine Form gefüllt und unter hohem Druck kaltgepresst, um einen porösen Rohling mit einer bestimmten Festigkeit herzustellen.
(3) Vorsintern: Erhitzen bei niedriger Temperatur in einem Vakuum oder einer Schutzatmosphäre, um das Gas im Inneren des Körpers zu entfernen und vorläufig zu verfestigen.
(4) Heißpressen/heißisostatisches Pressen: Der Körper wird unter hoher Temperatur und hohem Druck verdichtet, um Iridiumbarren mit hoher Dichte und geringer Porosität zu erhalten.
(5) Wärmebehandlung: durch Schmieden, Walzen oder Wärmebehandlung, Verfeinerung der Körner, Verbesserung der Gleichmäßigkeit der Struktur und Reduzierung innerer Spannungen.
(6) Präzisionsbearbeitung: Drahtschneiden, Schleifen und Polieren werden zu Zielrohlingen verarbeitet, die den Anforderungen an Größe, Ebenheit und Rauheit entsprechen.
(7) Schweißen der Rückplatte(optional): Binden Sie das Targetmaterial an die Rückplatte aus Kupfer, Molybdän und anderen Rückplatten, um eine gute elektrische und thermische Leitfähigkeit während des Sputterns sicherzustellen.
(8) Reinigung und Prüfung der Verpackung: Ultraschallreinigung zur Entfernung von Öl und Staub. Nach bestandener Reinheits-, Dichte-, -zerstörungsfreier Prüfung und anderen Tests wird die Vakuumverpackung gereinigt.

Unternehmensprofil

FANMETAL

XINXIANG FANMETAL TECH CO LTD beschäftigt sich hauptsächlich mit der Produktion und dem Vertrieb von Wolframlegierungen, Molybdänlegierungen, Hartmetall, Sputtertargets, Titanlegierungen, Zirkoniummetall, Iridium und Stellit. Die wichtigsten Produktions-, Technik- und Vertriebsmitarbeiter von FANMETAL verfügen über 10 bis 30 Jahre Erfahrung mit geschickter mechanischer Bearbeitung, Oberflächenbehandlung sowie Vertriebs- und Kundendienstlösungen für Fertigprodukte. Es kann Kunden bei der Lösung verschiedener während der Produktion auftretender Probleme unterstützen und dient der Effizienzsteigerung.

Qualitätssicherung und Compliance

Wir können die von unseren Kunden geforderte höchste Reinheit erreichen und ISO 9001-Zertifizierungen, Ursprungszeugnisse und MTC-Berichte bereitstellen.

Fortschrittliche Ausrüstung

Wir sind mit modernsten Sinteranlagen, einem CNC-Bearbeitungszentrum sowie Inspektions- und Analysegeräten ausgestattet. Und auch die Techniker verfügen über mehr als 20 Jahre Berufserfahrung.

Wettbewerbsfähige Preise

Im Vergleich zu anderen europäischen und amerikanischen Lieferanten sind wir in der Lage, qualitativ hochwertige Produkte anzubieten und gleichzeitig die Budgets der Kunden zu reduzieren. Und auch die Fracht ist sehr kostengünstig-effektiv.

Maßgeschneiderter Service

Wir können die Produktion gemäß den Zeichnungen des Kunden anpassen und auch gemäß den Anforderungen des Kunden entwerfen und verarbeiten.

FAQ

F: Was ist die höchste Reinheit Ihrer Iridium-Sputtertargets? Wie können Sie es beweisen?

A: Die höchste Reinheit unserer Iridium (Ir)-Sputtertargets beträgt 99,999 % (5N). Wir stellen ein Analysezertifikat (COA) von Drittlaboren zur Verfügung, einschließlich Testergebnissen von GDMS (Glow Discharge Mass Spectrometry) und ICP-Tests, um den Gehalt an Verunreinigungen zu überprüfen und die Reinheit des Materials zu gewährleisten.

F: Wie wirkt sich die Korngröße auf die Sputterleistung aus? Wie steuern Sie die Korngröße in Ihrem Prozess?

A: Eine gleichmäßige und feine{0}}Korngröße sorgt für eine stabile Abscheidungsrate, eine gleichmäßige Filmdicke, eine geringe Partikelbildung und eine gleichmäßige Filmdichte während des Sputterns.
Wir kontrollieren die Korngröße präzise durch optimierte Pulvervorbehandlung, Vakuum-Heißpressen/HIP-Sintern und Wärmebehandlung nach dem Sintern. So erreichen wir eine feine, gleichmäßige Mikrostruktur mit wenigen Fehlern und gewährleisten so hochwertige Dünnfilme.

F: Welche Formen und Abmessungen sind für Ihre Iridium-Ziele verfügbar?

A: Wir können Iridium-Sputtertargets in verschiedenen Formen anpassen, einschließlich runder, planarer, rechteckiger, rotierender, kreisförmiger Targets, stufenförmiger Targets und benutzerdefinierter Spezialprofile.
Die Abmessungen können entsprechend den Kundenzeichnungen angepasst werden und decken Standard- und Nicht-{0}}Standardgrößen ab, von kleinen Laborzielobjekten bis hin zu großformatigen industriellen Beschichtungszielobjekten.

F: Wie kann die Ausnutzungsrate von Iridium-Targets beim Sputtern verbessert werden?

A: Um die Zielauslastung zu erhöhen, empfehlen wir:

Verwendung rotierender zylindrischer Iridium-Targets anstelle planarer Targets, was die Ausnutzung deutlich verbessern kann.
Verwendung von Zielen mit hoher -Dichte und gleichmäßiger Mikrostruktur, um abnormale Erosion und Partikel zu reduzieren.
Optimierung des Magnetron-Magnetfelddesigns und der Sputterprozessparameter, um eine gleichmäßigere Erosion zu erreichen.
Wir bieten auch hoch{0}einheitliche Iridium-Targets an, um eine höhere Auslastung in der tatsächlichen Produktion zu unterstützen.

F: Wie hoch sind Ihre Versandkosten?

A: Dies hängt hauptsächlich vom Gewicht, Volumen, der Entfernung vom Zielort und der Größe des Pakets ab. Wir werden unser Bestes tun, um mit dem Expressunternehmen zu kommunizieren, um Ihnen dabei zu helfen, die günstigsten Versandkosten zu erhalten.

F: Wie ist Ihre Lieferzeit?

A: Unsere Versandart erfolgt hauptsächlich per Luft- oder Seeweg. Nachdem das Produkt fertig ist, verwenden wir Holz-, Kunststoff- oder Kartonschachteln für eine dichte Verpackung und legen auch einige weiche Materialien ein, um Produktschäden zu vermeiden. Wir liefern es Ihnen so schnell wie möglich, innerhalb von 20-30 Tagen.