Zielscheibe aus hochreiner Titan-Aluminium-Legierung

Hochreine Titan-Aluminiumlegierungs-Targets werden häufig im Pulvermetallurgieverfahren hergestellt. Aufgrund ihrer hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften können sie in einer Vielzahl von physikalischen Gasphasenabscheidungs- und Sputterverfahren zur Metallverdampfung und -abscheidung eingesetzt werden und eignen sich sehr gut für die optische Beschichtung und das Vakuum Beschichtung, optoelektronische Geräte, Bereiche wie Hochtemperaturverarbeitungswerkzeuge, chemische Verarbeitung und medizinische Geräte spielen eine Rolle. Unsere Metallziele sind von hoher Qualität, erschwinglich und können individuell angepasst werden. Wenn Sie mehr wissen möchten, senden Sie uns bitte eine E-Mail.

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Beschreibung des Ziels aus hochreiner Titan-Aluminium-Legierung

Unser Unternehmen verwendet im Allgemeinen pulvermetallurgische Verfahren zur Herstellung von Legierungstargets. Das fertige Produkt zeichnet sich durch hohe Dichte, keine Porosität, keine Porosität und Entmischung, gleichmäßige Zusammensetzung, feine Körnung usw. aus. Die Aufgabe des Targets besteht darin, durch Magnetronsputtern oder PVD-Technologie (Physical Vapour Deposition) einen Film mit einer bestimmten Funktion oder einem dekorativen Effekt auf dem Substrat abzuscheiden.

Zielscheibe aus hochreiner Titan-Aluminium-Legierungenthält eine Reihe hervorragender Eigenschaften von Titanlegierungen:

1. Durch das Vakuumbeschichtungsverfahren kann eine gleichmäßigere und qualitativ hochwertigere Beschichtung mit hoher Reinheit und hoher Dichte erzielt werden

2. Hohe Zugfestigkeit, gute Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Oxidationsbeständigkeit, die die Lebensdauer des Targets und des Films gewährleisten können

3. Gute elektrische und thermische Leitfähigkeit, hohe Temperaturstabilität

4. Hohe Beschichtungseffizienz und hohe Qualität

DerZielscheibe aus hochreiner Titan-Aluminium-LegierungDas von unserem Unternehmen hergestellte Material wird häufig in der dekorativen Beschichtung und Werkzeugbeschichtung eingesetzt, wodurch die Lebensdauer und Effizienz von Werkzeugen effektiv verbessert werden kann. In der Halbleiterfertigung werden sie häufig zur Herstellung der Grenzschicht, des Schweißhilfsfilms, der Barriereschicht usw. in Halbleitergeräten verwendet und werden hauptsächlich als Metallsputtern in der Waferherstellung verwendet, wobei häufig das PVD-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird. Dekorative Beschichtungen werden hauptsächlich in Schmuck, Instrumenten, Brillengestellen, Heimdekorationen und anderen Bereichen verwendet.

Spezifikationen des Ziels aus hochreiner Titan-Aluminium-Legierung:

Material	Ti50Al50, Ti33Al67, Ti70Al30
Technik	Sintern, Schmieden, Glühen, Walzen, Vakuumschmelzen, maschinelle Bearbeitung
Reinheit	99.9%-99.999%
Durchmesser	10-1000mm
Dicke	1-100mm
Dichte	4,5 g/cm³
Oberfläche	Poliert, hell
Form	Scheibe
Norm	ASTM, GB, JIS
Zertifizierung	ISO9001

Zielbild aus hochreiner Titan-Aluminium-Legierung

Titanium Aluminum Round Sputtering Target

Titanium Aluminum Sputter Round Target

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