Chromziel
Überblick
A Chromzielist ein wichtiger Verbrauchsmaterial, das zur Herstellung von Chrom-Dünnfilmen in Dünnfilmabscheidungstechnologien wie Magnetronsputter und Elektronenstrahlverdampfung . verwendet wird. Es wird hauptsächlich aus Hochpuritäts-Metall-Chrom hergestellt und wird durch Prozesse wie Pulvermetallie, Schmelzen und Drücken hergestellt. (e . g ., cu Interconnect Barrier-Schichten und Photolithographie-Maskenmaske Lichtverschiebungsschichten), optische Komponenten (e {. G., Infrarot-Reflektoren und dekorative Chrombeschichtung), mechanische Verschleißbeschichtungen) (E . G ., Lager und Schimmelpilzbescheid), hochtemperaturresistente Beschichtungen in der Luft- und Raumfahrt und Antikorrosionsbeschichtungen in der chemischen Industrie .
99,95% Chromzielmerkmale
Ausgezeichnete physikalische Eigenschaften
Die Mohshärte von Chrom beträgt etwa 9, was nur von Diamant und einigen superharten Materialien übertroffen wird. Die Härte von durch Sputtern abgelagertem Chromfilm kann 600-1200 HV erreichen. Der Wärmeausdehnungskoeffizient von Chrom stimmt gut mit dem von Metall, Keramik, Glas und anderen Substraten überein.
Hervorragende chemische Stabilität
Chromium bildet leicht einen dichten Cr2O2-Passivierungsfilm in der Luft, der eine hohe Korrosionsbeständigkeit gegen Säuren (wie Schwefelsäure, Salzsäure), Alkalien und Salzlösungen aufweist. Zum Beispiel kann die Korrosionsschutzbeschichtung von Metallteilen von Schiffsrümpfen und Flugzeugoberflächen der Erosion durch Salzspray und feuchte Umgebungen widerstehen.
Gute optische und elektrische Eigenschaften
Das Reflexionsvermögen von Chrom in der sichtbaren Lichtbande beträgt etwa 60%-70%, und im Infrarotband kann es insbesondere über 90%. sein, insbesondere sein Kontaktwiderstand mit Siliziumkomponenten in Halbleitern niedrig, wodurch es für die Leitfähigkeit geeignet ist .}}}}}
Ideale Materialien für die Sputterablagerung
Es hat eine hohe Reinheit und Sputter-Effizienz höher als die meisten refraktär
Dimension
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Grad |
CR009302, CR009500, CR009600 usw. . |
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Reinheit |
99.95%,99.9%,99.99%,99.999% |
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Dicke |
3mm -40 mm |
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Durchmesser |
50mm -160 mm |
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Schmelzpunkt |
1857 Grad |
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Dichte |
7.2g/cm3 |
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Form |
Scheiben |
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Oberfläche |
Polieren, Alkali -Reinigung |
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Zertifizierung |
ISO9001 |
Anwendung
1. Die Halbleiterindustrie
Chromfilme werden häufig als Ablagerungsmaterial für Dünnschicht verwendet.
2. Photovoltaikindustrie
Chrom -Zielmaterialien können zur Herstellung von Sonnenkollektoren . verwendet werden, indem die Lichtabsorptionsrate der Batterie verstärkt und das Oberflächenreflexionsvermögen verringert wird. Sie können die Solarenergieumwandlungseffizienz erhöhen, wodurch die Stromerzeugungskapazität von Sonnenkapseln erhöht und die Energiekosten senkt .}}}}}}}}}}
3. dekorative und schützende Beschichtungen für Automobile und Gebäude
Wird zur Herstellung von dekorativen Metallfilmen verwendet.
4. physikalische Ablagerungsfilme und funktionale Beschichtungen für elektronische Komponenten, Anzeigen und Tools (PVD -Methode) .
5. Vakuum -Chrombeschichtung wird für Uhrenteile, Haushaltsgerätekomponenten, hydraulische Zylinder, Folienventile, farbiges Glas und andere Maschinen und Geräte verwendet .}
Anwendung von Chromsputterzielen bei der Herstellung von Halbleitern
- Hauptsächlich im Sputterbeschichtungsprozess verwendet, kann es einen einheitlichen, dichten und starken Adhäsion -Chromfilm bilden, der die Leistung und Stabilität von Halbleitergeräten . erheblich verbessern kann
- Chrom -CR -Ziele werden in Ablagerungsfilmen von integrierten Schaltungen häufig verwendet und für leitende Pfade und Verbindungen in mikroelektronischen Geräten verwendet, um eine effiziente Wärmedissipation und eine stabile Übertragung von leitenden Schichten . sicherzustellen,
- Das Chrom-CR-Rundziel wird auch in der Anti-Anregungsschicht verwendet, die die Schaltungsstruktur während des Ätzprozesses vor Schäden schützen und die Integrität des Schaltungsmusters verbessern kann
- In bestimmten spezifischen Halbleitergeräten wie optischen Sensoren und Solarzellen können hochwertige Filme, die durch Chromziele gesputtert sind
Verfahren
- Pulvermetallurgie: niedrige Kosten, geeignet für die Vorbereitung großer und spezieller Ziele (wie gekrümmte Ziele)
① Mischen Sie es nach der Reinigung des Chrompulver
② Machen Sie eine Leere durch kaltes isostatisches Drücken oder heißes Isostat, um die Dichte des Ziels zu erhöhen. .
③ Sinter in einem Wasserstoffschutzatmosphäre für 2-4 Stunden, um Poren durch Diffusionssintern zu eliminieren und die Dichte des Materials zu erhöhen .}
④ Schneiden und mahlen Sie den gesinterten Blank, um die dimensionale Toleranz zu verringern, und polieren Sie die Oberfläche nach Ultraschallreinigung, um die Oberflächenoxidschicht . zu entfernen
- Schmelzmethode: hohe Dichte, höhere Reinheit, aber komplexer Prozess, hohe Kosten, hauptsächlich für runde oder rechteckige Standardziele .
① Verwenden Sie Elektronenstrahlschmelzen oder Vakuumbogenschmelzen, um High-Purity-Chromblöcke zu schmelzen .
② Geben Sie die geschmolzene Chromflüssigkeit in Ingots und dann heiße Schmiede oder heiße Rolle .
③ Schneiden Sie die geschmiedeten Chrom -Pergots in benutzerdefinierte Größen, entfernen Sie die Oxidskala durch mechanisches Schleifen und dann .}}}}
④ Durchführen einer umfassenden Qualitätsprüfung vor dem Verpacken und Versand, wie z.
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Fall
Chromziel, 99,95% Chrom -CR -Ziele nach Korea
Anfang Januar haben wir eine Zielkooperationsvereinbarung im Zusammenhang mit einem koreanischen Kunden . Kunden unterzeichnet.
Wir verwenden einen Pulvermetallurgieverfahren gemäß den Anforderungen des Kunden bei der Verarbeitung . Pulvermetallurgie ist eine Methode zur Drücke von Chrompulver mit hohem Purity in eine Form und dann {. Es ist geeignet, um Ziele mit komplexen Formen vorzubereiten. sind erforderlich . Schließlich müssen Qualitäts- und Leistungstests durchgeführt werden, um die internationalen Standards zu erfüllen .
Produktqualifikation
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