Hochreines Chrom-Sputtertarget

Beschreibung des hochreinen Chrom-Sputtertargets

Chrom ist ein stahlgraues, glänzendes, hartes und sprödes Übergangsmetall. Hochreine Chrom-Sputtertargets werden im Allgemeinen durch Vakuumschmelzen oder heißisostatische Pressverfahren hergestellt. Es zeichnet sich durch hohen Schmelzpunkt, Korrosionsbeständigkeit, hohe Temperaturbeständigkeit, Schlagfestigkeit, Verschleißfestigkeit, hohe Festigkeit und Härte aus und kann mit hoher Reinheit und Haftung gesputtert werden. Hochwertige Folie mit hohen Eigenschaften, guter Gleichmäßigkeit, ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit und Haltbarkeit. In der Vakuumverarbeitungsindustrie kann ein Sputtertarget aus hochreinem Chrom einen relativ stabilen Chromionenstrahl erzeugen, der es ermöglicht, es zur Herstellung von Substraten oder Oberflächenbeschichtungen zum Schutz von Substraten oder für einige Branchen zu verwenden, die besonders eine hohe Oxidationsbeständigkeit erfordern. Komponente. Hochreines Chrom-Sputtertarget wird normalerweise in PVD- und CVD-Verarbeitungsprozessen zur Herstellung dekorativer Beschichtungen, korrosionsbeständiger Beschichtungen und reflektierender Beschichtungen verwendet. Durch Anpassung der Prozessparameter können auch Chrombeschichtungen in verschiedenen Farben aufgebracht werden.

Spezifikationen des hochreinen Chrom-Sputtertargets:

Hochreine Chrom-Sputtertarget-Bilder:

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