Sputterziel aus Titanaluminium
FANMETAL liefert das Ti-Al-Legierungs-Titanaluminium-Sputterziel, das in PVD-Beschichtungssystemen verwendet wird. Wir bieten auch andere Metallziel- und Verdampfungsmaterialien für hochreine 99,9999%, Edelmetallziele (Au, Ag, Pt), Zielklebeservice, Tiegelauskleidungen (Kupfer, Molybdän, Wolfram usw.)
Die Qualitätsanforderungen an Titan Aluminium Sputtering Target-Materialien sind höher als die der traditionellen Materialindustrie. Allgemeine Anforderungen wie Größe, Ebenheit, Reinheit, Verunreinigungsgehalt, Dichte, N/O/C/S, Korngröße und Fehlerkontrolle; höhere Anforderungen oder besondere Anforderungen umfassen: Oberflächenrauheit, Widerstandswert, Gleichmäßigkeit der Korngröße, Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung und Struktur, Fremdstoffgehalt und -größe, Permeabilität, ultrahohe Dichte und ultrafeine Körner usw.
Titan-Aluminium-Sputter-Zielbild:
Sputterziel aus Titanaluminium Beschreibung
Reinheit | Al-Ti (35/65at%), Al/Ti (50:50 at%),AlTi 97/3wt%, AlTi 95/5wt%, AlTi 90/10wt% |
Form | Scheiben, Platte, Stufe (Durchmesser ≤300mm, Dicke ≥1mm) (Länge ≤1000mm, Breite ≤300mm, Dicke ≥1mm) |
Zertifizierung | ISO 9001:2008 |
Spezifikation | Angepasst als Anfrage |
Prozess | Geschmiedet , Walzen , Schleifen |
Anwendung | 1. Galvanik; 2. Chemieingenieurwesen & Petrochemische Technologie; 3. Medizin |
Dichte | 4,51 g/cm3 |
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