Nickelmetall-Sputtertargets
Beschreibung der Nickelmetall-Sputtertargets
In der Industrie wird Nickel häufig bei der Legierungsherstellung, der Batterieproduktion und als Katalysator verwendet. Insbesondere im Bereich der Targetmaterialien findet Nickel aufgrund seiner hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften breite Anwendung. Nickel-Metall-Sputtertargets werden hauptsächlich aus hochreinen Nickelmaterialien durch Sputtern, Elektronenstrahlverdampfung, Heißpressen oder chemische Gasphasenabscheidungstechnologie hergestellt. Sie können entsprechend den tatsächlichen Bedürfnissen der Kunden ausgewählt und kombiniert werden. Nickelmetall-Sputtertargets haben gute Verarbeitungseigenschaften, starke Korrosionsbeständigkeit, gute thermische und elektrische Leitfähigkeit, spezifische elektrische und magnetische Eigenschaften, gleichmäßige Mikrostruktur, Schlagfestigkeit, Verschleißfestigkeit, lange Lebensdauer usw. Hervorragende Eigenschaften, geeignet für eine breite Anwendung in Datenspeicherindustrie, Elektronik, Halbleiterindustrie, optische Kommunikation, Flachbildschirmindustrie, Glasbeschichtung (Automobil, Möbel und Bauwesen) und andere Bereiche.
Spezifikationen der Nickel-Metall-Sputtertargets:
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Grad |
Nickel 200.201 |
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Technik |
Heißisostatisches Pressen, Kornverfeinerung, Sintern, Schmieden, Glühen |
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Reinheit |
99.999% |
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Außendurchmesser |
Φ101.6-3.175mm |
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Dichte |
8,9 g/cm3 |
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Form |
Runden |
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Oberfläche |
Polieren |
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Lieferzeit |
25 Tage |
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Norm |
ASTM B161, ASTM B622 |
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Zertifizierung |
ISO9001 |
Bilder von Nickel-Metall-Sputtertargets:


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