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ASTMB865 Nickelziel
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ASTMB865 Nickelziel

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ASTMB865 Nickel-Target Beschreibung Nickel-Targets bestehen hauptsächlich aus hochreinem Nickelmetall, das Verarbeitungsprozessen wie Elektronenstrahlschmelzen, Schmieden, Walzen, Glühen und Inspektion unterzogen wurde. Durch mehrfache Kunststoffverarbeitung werden die von uns produzierten Nickel-Targets...
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Product Details ofASTMB865 Nickelziel

Beschreibung des ASTMB865-Nickelziels

Nickel-Targets bestehen hauptsächlich aus hochreinem Nickelmetall, das Verarbeitungsprozessen wie Elektronenstrahlschmelzen, Schmieden, Walzen, Glühen und Inspektion unterzogen wurde. Durch wiederholte Kunststoffverarbeitung entsprechen die von unserem Unternehmen hergestellten Nickeltargets dem internationalen Standard ASTM B865, der eine gute Sputterrate und eine gleichmäßige Filmschicht mit guter Leitfähigkeit bieten kann. ASTMB865 Nickel Target hat die Vorteile von hoher Reinheit, hoher Dichte, hoher Politur, gleichmäßiger Korngröße, starker Korrosionsbeständigkeit, guter chemischer Stabilität und guter Haltbarkeit.

ASTMB865 NickelzielAnwendung

Nickel wird hauptsächlich in Legierungen und als Katalysator verwendet. ASTMB865 Nickel-Target eignet sich für die Anwendung in der Vakuumbeschichtungsindustrie, der physikalischen Dampfabscheidung und chemischen Dampfabscheidung, der Halbleiterindustrie, der Mikroelektronikindustrie, der Maschinenherstellung und der Glasbeschichtungsindustrie und anderen Bereichen. Es ist ein Schlüsselmaterial für Halbleiter-Rückelektroden.


ASTMB865 NickelzielSpezifikationen:

Reinheit

99.99(4N),99.995(4N5)

Technik

Heißisostatisches Pressen, Sintern, Schmieden, Glühen

Größe

Φ101.6-3.175mm

Dicke

1 mm bis 10 mm

Durchmesser

10 mm bis 360 mm

Dichte

8,9 g/cm3

Form

Zylinder, Scheibe, Rohr, Platte, Ring

Auftauchen

Polieren, alkalische Reinigung, Schleifen, Schwarzoxid usw.

Normen:

ASTM B865,GB/T

Zertifizierung

ISO9001:2008


Bilder von ASTMB865-Nickelzielen:

High Purity Nickel Sputtering Target

Nickel Sputtering Target

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