Sputtertarget

Hochreines Titan-Sputtering-Target

Hochreines Titan-Sputtertarget Beschreibung und Anwendung Titan ist ein paramagnetisches Refraktärmetall mit starker Zähigkeit und hoher Festigkeit, insbesondere in einer sauerstofffreien...

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Nickel-Sputtering-Target

Beschreibung des Nickel-Sputtertargets Nickel ist ein silberweißes Metall mit gutem Ferromagnetismus und Plastizität, das hauptsächlich bei der Herstellung von Legierungen, Edelstahl, Münzen und...

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Aluminium-Silizium-Sputter-Target

Aluminium-Silizium-Sputtern Zielbeschreibung: Aluminium-Silizium-Legierung ist eine Schmiedelegierung, die hauptsächlich aus Aluminium und Silizium besteht, und es ist auch ein Material mit einem...

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Titan-Chrom-Sputtering-Target

Titan-Chrom-Sputtertargets werden häufig mit pulvermetallurgischen Verfahren hergestellt, sodass die Mikrostruktur gleichmäßiger und feiner ist als bei Materialien, die durch...

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Chrom-Sputtering-Target

Chrom ist ein stahlgraues, glänzendes, hartes und sprödes Übergangsmetall, das hochgradig poliert werden muss, um ein Ausbleichen zu verhindern. Chrom-Sputtertargets haben die gleichen chemischen...

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Titan-Silizium-Sputtering-Target

FANMETAL liefert das Titan-Silizium-Sputtertarget aus einer Ti-Si-Legierung, das in PVD-Beschichtungssystemen verwendet wird. Zusammensetzung der TiSi-Legierung: 85:15 % 80:20 % 75:25 % . Wir...

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Titan-Sputter-Target

FANMETAL liefert reines 99,999% Titan Sputtering Target. Reinheit von 99,5% bis 99,9999%. Derzeit ist für das 4-Megabit-VLSI die Reinheit von Titan erforderlich, um 4N5 (99,995%) ~ 5N (99,999%) zu...

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Zirkonium-Sputtering-Target

FANMETAL liefert das Zirkonium-Sputtering-Target, das im PVD-Beschichtungssystem verwendet wird. Material reines Zirkonium Zr702. Wir bieten auch andere Metalltargets und Verdampfungsmaterialien...

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Wolfram-Titan-Sputtering-Target

FANMETAL liefert das W-Ti-Legierungs-Wolfram-Aluminium-Sputtertarget, das in PVD-Beschichtungssystemen auf dem Gebiet der Halbleiter verwendet wird. Ti-Gehalt 10 % ~ 50 %, normalerweise liefern...

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Titan-Borid-Sputter-Target

FANMETAL liefert das TiB2 Titanium Boride Sputtering Target, das in PVD-Beschichtungsanlagen verwendet wird. Wir bieten auch andere Metallziel- und Verdampfungsmaterialien für hochreine 99,9999%,...

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Nioboxid-Sputtering-Target

FANMETAL liefert das Nb2O5-Nioboxid-Sputtering-Target, das im PVD-Beschichtungssystem verwendet wird. Wir bieten auch Targets für andere Metalle und Verdampfungsmaterial mit hoher Reinheit von...

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Aluminiumzinkoxid-Sputtertargets

Mit der Entwicklung transparenter leitfähiger Filme wurden AZO-(Al2O3-ZnO)-Targets, die ITO ersetzen können, weit verbreitet. Der transparente leitfähige AZO-Film hat eine Bandlücke von 3,4 eV und...

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Wir sind als einer der führenden Hersteller und Lieferanten von Sputtertargets in China bekannt. Wenn Sie ein qualitativ hochwertiges Sputtertarget zu einem wettbewerbsfähigen Preis kaufen möchten, erhalten Sie gerne ein Angebot von unserer Fabrik. Außerdem ist ein maßgeschneiderter Service verfügbar.

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