Nickel-Sputtering-Target
Beschreibung des Nickel-Sputtertargets:
Nickel ist ein silberweißes Metall mit gutem Ferromagnetismus und Plastizität, das hauptsächlich bei der Herstellung von Legierungen, Edelstahl, Münzen und Batterien verwendet wird. Nickel hat starke Antioxidations- und Korrosionsschutzeigenschaften und kann einen dichten Oxidfilm auf dem Metall bilden Oberfläche bei Raumtemperatur oder in feuchter Umgebung, was auch bedeutet, dass es zu Nickel-Sputter-Targets verarbeitet werden kann, um hochwertige Beschichtungsfilme zu erzeugen. Im Vakuum verdampft, kann Nickel eine dichte, korrosionsbeständige dekorative Beschichtung auf keramischen Oberflächen bilden oder Lötschichten bei der Herstellung von Schaltungsvorrichtungen.
Nickel-Sputtering-Target-Anwendung:
Nickel ist ein gutes alternatives Sputterbeschichtungsmaterial für EDX-Anwendungen und BSE-Bildgebung. Die Sputterrate und -qualität von Nickel-Sputtertargets sind sehr gut und sie werden in verschiedenen Bereichen wie Datenspeicherindustrie, Elektronik, Halbleiterindustrie, Dünnfilmabscheidung (CVD und PVD), dielektrische Kondensatorfilme, photoleitende Filme, Optik weit verbreitet Kommunikations-, Magnet- und Speicherelemente, Glasbeschichtungen ((Automobil, Möbel und Bau) usw.
Nickel-Sputtering-TargetSpezifikationen:
Reinheit | 99.99(4N),99.995(4N5) |
Technik | Heißisostatisches Pressen, Sintern, Schmieden, Glühen |
Größe | Φ101.6-3.175mm |
Dicke | 1 mm bis 10 mm |
Durchmesser | 10 mm bis 360 mm |
Schmelzpunkt | 1453 Grad |
Dichte | 8,91 g/cm3 |
Form | Zylinder, Scheibe, Rohr, Platte, Ring |
Auftauchen | Polieren, alkalische Reinigung, Schleifen, Schwarzoxid usw. |
Normen: | ASTM,GB/T |
Zertifizierung | ISO9001:2008 |
Nickel-Sputtering-Target-Bilder:


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