Rundes Aluminium-Chrom-Sputtering-Target

Eigenschaften und Anwendung von Aluminium-Chrom-Sputter-Rundtargets

Die steigende Nachfrage nach legierten Sputtermaterialien spiegelt den aktuellen Trend wider, multifunktionale harte Oberflächenbeschichtungen in der Metallverarbeitung, der Luft- und Raumfahrtindustrie und der Energietechnik zu schaffen. Aluminium-Chrom-Sputtering-Rundtargets werden häufig im Pulvermetallurgieverfahren hergestellt, das im Allgemeinen durch Formen komprimiert wird, wodurch die Mikrostruktur des Materials gleichmäßiger und feiner wird als beim Metallschmelzverfahren und seine Haltbarkeit länger ist. Die durch Aluminium-Chrom-Sputter-Rundtargets gesputterte Hartbeschichtung kann die Festigkeit von Schneid- und Stanzinstrumenten verdoppeln, sodass eine Hochgeschwindigkeitsbearbeitung ohne Kühlmedium durchgeführt werden kann und die Erosionsbeständigkeit und Haltbarkeit von Maschinenteilen erhöht werden kann. Sie eignen sich sehr gut für verschiedene industrielle Beschichtungs- und Glasbeschichtungsindustrien wie elektronische Geräte, Metallwerkzeugverarbeitung, Halbleiterkomponenten, Automobilrückspiegel, Beleuchtungsindustrie und Architekturglas.

Spezifikationen des Aluminium-Chrom-Sputtering-Rundziels:

Werkstoff: Cr30Al70

Reinheit: 99,5 Prozent

Größe: Säule (Dia<650mm, Thickness >1 mm); Rechteck, Stufenrechteck (Länge<1500mm, Width<300mm, Thickness>1 mm); Rohrziel (AD: 20 mm-160 mm, Dicke: 2-20 mm)

Oberfläche: Poliert, hell, chemische Reinigung, Schwarzoxid usw.

Zertifizierung: ISO9001

Rundes Aluminium-Chrom-Sputtering-Target Bilder:

FAQ

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