Zirkonium-Zr-Sputtertargets
Beschreibung der Zirkonium-Zr-Sputtertargets
Zirkonium ist ein seltenes Metall mit erstaunlicher Korrosionsbeständigkeit, extrem hohem Schmelzpunkt, extrem hoher Härte und guter Plastizität usw. Es eignet sich sehr gut für Schmelzen, Luft- und Raumfahrt und Atomenergie. Zirkonium-Zr-Sputtertargets weisen eine Reihe hervorragender Eigenschaften von Metallzirkonium auf, verwenden hauptsächlich die Elektronenstrahlschmelztechnologie und durchlaufen dann vor dem Export Schmieden, Walzen, Glühen, maschinelle Bearbeitung, Reinigung und Qualitätsprüfung.
Der Sputterprozess ist eine Art physikalische Gasphasenabscheidungstechnologie und eine der Haupttechnologien zur Herstellung elektronischer Dünnschichtmaterialien. Je nach Anwendungsgebiet können Sputtertargets in Halbleitertargets, Planartargets, beschichtete Glastargets oder Solarphotovoltaiktargets unterteilt werden. Unter ihnen werden Zirkonium-Zr-Sputtertargets häufig in den Bereichen Mikroelektronik, Architekturglas, Automobilglas, elektronische Informationsindustrie und Dekorationsindustrie eingesetzt.
Technische Daten der Zirkonium-Zr-Sputtertargets:
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Grad |
R60702 |
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Technik |
Vakuumschmelzen, HIP, Bearbeitung, Kleben |
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Reinheit |
99,2 Prozent |
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Kreisförmiger Durchmesser |
AD:50-300mm,ID:30-280mm |
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Planare Länge |
500-6000mm |
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Zugfestigkeit |
380 MPa |
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Dichte |
6,51 g/cm3 |
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Form |
Rund, Rechteck |
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Oberfläche |
Polieren, Schwarz, Beizen, Sandstrahlen, Schleifen, Schwarzoxidieren |
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Norm |
ASTM B550, GB |
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Zertifizierung |
ISO9001 |
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