Hochreine Zirkonium-Sputtertargets

Hochreine Zirkonium-Sputtertargets Beschreibung

Hochreine Zirkonium-Sputtering-Targets verwenden hauptsächlich Zirkoniumschwamm und Zirkoniumkristallstab als Rohstoffe. Obwohl die Kosten des Kristallstabs höher sind als die des Zirkoniumschwamms, weist er weniger Verunreinigungen und eine hohe Reinheit auf. Es ist ein ideales Material zur Herstellung von Sputtertargets. Denn die Reinheit des Materials hängt eng mit der Qualität der gesputterten Filmbeschichtung zusammen. Je reiner das Material, desto länger die Haftung, Verschleißfestigkeit und Lebensdauer der Beschichtung und desto stärker die Schutzwirkung für das Produkt. Im Vergleich zu Titan-Targets haben hochreine Zirkonium-Sputtering-Targets eine höhere Korrosionsbeständigkeit, bessere Duktilität und nichtmagnetische Eigenschaften und können in verschiedene Formen (rund, Platte oder Rohr) gegossen werden. Wir können eine Reihe von Zirkoniummetallprodukten mit wettbewerbsfähigen Preisen und Lieferzeiten liefern, wie zZirkoniumstange,Zirkontiegelund Zirkonium 702 Rohr usw. Bitte kontaktieren Sie uns bei Bedarf per E-Mail, wir werden unser Bestes tun, um Ihre Bedürfnisse zu erfüllen.

Hochreine Zirkonium-Sputtertargets Spezifikationen:

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