Zirkonium 702 Sputter-Rundtarget
Merkmale und Anwendung des runden Sputtertargets aus Zirkonium 702
Der Vorbereitungsprozess des Zirkonium 702 Sputter Round Target umfasst: Zuerst wird hochreines Zirkoniummaterial vorbereitet, dann durch Elektronenstrahlschmelzen verarbeitet und anschließend eine Reihe von Bearbeitungen wie Schmieden, Walzen, Glühen, Bearbeiten, Zuschneiden und Reinigen durchgeführt. . Die mit dem Zirconium 702 Sputter Round Target gesputterte Zirkoniumbeschichtung kann die Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Haltbarkeit des beschichteten Werkzeugs verbessern und bei der hochfesten Verarbeitung bessere mechanische Eigenschaften erzielen. Das Zirconium 702 Sputter Round Target wird häufig in der dekorativen Beschichtung verwendet. Halbleiter- und optische Beschichtungsbereiche, die hauptsächlich in der Elektronik- und Informationsindustrie eingesetzt werden, wie z. B. integrierte Schaltkreise, Informationsspeicherung, Flüssigkristallanzeige, Laserspeicher, elektronische Steuergeräte usw., und können auch im Bereich der Glasbeschichtung eingesetzt werden; kann auch in verschleißfesten Materialien, Hochtemperatur-Korrosionsbeständigkeit, hochwertigen dekorativen Produkten und anderen Branchen eingesetzt werden.
Technische Daten des Zirkonium 702 Sputter-Rundtargets:
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Grad |
ZR702 |
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Reinheit |
99,9 Prozent -99,99 Prozent |
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Dichte |
6,54 g/cm3 |
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Technik |
Heißisostatisches Pressen, Sintern, Vakuumschmelzen, Schmieden, Extrudieren, maschinelle Bearbeitung |
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Kreisförmiger Durchmesser |
AD:50-300mm,ID:30-280mm |
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Dicke |
1 mm-35 mm |
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Länge |
100 mm-4000mm |
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Typ |
Planar, Rohr, Scheibe, Zylinder |
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Lieferzeit |
15-20 TAGE |
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Oberfläche |
Poliert, alkalisch gereinigt, geschliffen, brüniert usw. |
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Zertifizierung |
ISO9001 |
Zirkonium 702 Sputter Round Target Bilder:
Häufig gestellte Fragen
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