Gold-Sputtering-Targets
Beschreibung und Anwendung von Gold-Sputtering-Targets
Gold ist ein dichtes und weiches Übergangsmetall mit sehr guter Duktilität und Zähigkeit, das oft natürliche Legierungen mit Kupfer oder Palladium bildet. Gold-Sputtering-Targets werden nach einer Reihe von Verarbeitungen aus hochreinem Goldmaterial hergestellt und haben die Vorteile einer guten Hitzebeständigkeit, starken elektrischen Leitfähigkeit, guten Haltbarkeit, hervorragenden Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit usw. Es ist ein häufig verwendeter Halbleiter und optisch Aufnahmematerial. Die typischste Anwendung besteht darin, leitfähige Filme mit hochwertigen Gold-Sputtering-Targets auf Proben abzuscheiden, für deren Inspektion SEM-Techniken erforderlich sind. Diese leitfähigen Filme können eine gute Beobachtung von nicht leitfähigen Proben ermöglichen, den Kontrast von Bildern verbessern und können auch die Proben schützen und Strahlungsschäden an den Proben verringern. Gold Sputtering Targets können auch in der Display-, LED-Industrie, Photovoltaikindustrie, PVD und PLD, Kommunikation und Luft- und Raumfahrt eingesetzt werden.
Gold-Sputtering-TargetsSpezifikationen:
Material | Gold (Au) |
Reinheit | 99,99-99,999 Prozent |
Größe | Φ60mm |
Dichte | 19,3 g/cm3 |
Schmelzpunkt | 1064 Grad |
Auftauchen | Fräsen, Schleifen, Schwarz, Hochglanzpoliert |
Lieferzeit | 15-20 Tage |
Standard | ASTM,GB,ANSI |
Zertifizierung | ISO9001 |
Bilder von Gold-Sputtering-Targets:


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