Chrom-Cr-Sputtertarget
Beschreibung des Chrom-Cr-Sputtertargets
Chrom ist ein hartes und sprödes stahlgraues Übergangsmetall, das wegen seiner hohen Korrosionsbeständigkeit und Härte sehr geschätzt wird. Chrom-Cr-Sputtering-Targets sind oft hochglanzpoliert, um Flecken zu widerstehen, eine einfache Reinigung zu erleichtern und die Abriebfestigkeit und Haltbarkeit zu verbessern. In der Glasindustrie und Eisenwarenindustrie ist der Beschichtungsprozess die am häufigsten verwendete Methode, um die Werkzeugleistung zu verbessern und die Lebensdauer zu verlängern, und die Herstellung hochwertiger Chrombeschichtungen erfordert hochwertige Chrom-Sputtering-Targets als Vorbereitungswerkzeuge. Die Präparationsmethoden sind hauptsächlich Es gibt: Magnetron-Sputtern oder Lichtbogenverdampfung.
Merkmale des Chrom-Cr-Sputtertargets:
1. Hohe Reinheit, hohe Härte und hohe Korrosionsbeständigkeit
2. Hohe Kostenleistung, hohe Auslastung und hohe Arbeitseffizienz
3. Die Chrombeschichtung hat eine hohe Haftung, hohe Schmierfähigkeit, geringen Verschleiß, hervorragende Schlagfestigkeit und Temperaturwechselbeständigkeit sowie eine lange Lebensdauer
Chrom-Cr-Sputtertarget-Anwendung:
1. Vakuumbeschichtungsanwendungen, wie z. B. Vakuumverchromung von Arbeitsflächen von Autoteilen und -zubehör und anderen Maschinen und Ausrüstungen
2. Wird als abgeschiedene dekorative Beschichtung verwendet, um einen attraktiven Glanz auf Uhren, Elektronik, Bedienelementen von Geräten und einer Reihe anderer Produkte zu erzeugen.
3. Kann auf Triebwerkskomponenten in der Luft- und Raumfahrt-, Militär- oder Nuklearindustrie verwendet werden, um vorzeitigen Verschleiß zu verhindern und die Lebensdauer zu verlängern
4. Solarenergie, Herstellung von Photovoltaikzellen, Beleuchtungsindustrie und Hardwarebeschichtungsindustrie (Gießformen und Schneidwerkzeuge usw.)
Chrom-Cr-SputtertargetSpezifikationen:
Klasse | CR009302, CR009500, CR009600 usw. |
Technik | Heißisostatisches Pressen, Kornfeinung, Sintern, Schmieden, Glühen |
Reinheit | Größer oder gleich 99,95 Prozent |
Typ | Planares Sputtertarget, rotierendes Sputtertarget, Acr-Kathode |
Dicke | 3mm-40mm |
Durchmesser | 63 mm, 100 mm, 105 mm, 160 mm |
Dichte | 7,2 g/cm3 |
Form | Rund,Scheiben,Platten,Säulenziele,Stufenziele,Sonderanfertigung |
Auftauchen | Polieren, alkalische Reinigung, Schleifen, Schwarzoxid usw. |
Zertifizierung | ISO9001, Echtheitszertifikat, Sicherheitsdatenblatt |
Chrom-Cr-Sputtertarget-Bilder:


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