Zirkoniumziel
Überblick
Das Zirkoniumziel wird in den Feldern der Sputterbeschichtung, der Herstellung von Halbleiter, der optischen Beschichtung, der neuen Energie usw. . häufig verwendet, mit seiner hervorragenden physikalischen und chemischen Stabilität, Korrosionsresistenz, hoher Reinheitskontrollierbarkeit und Anpassungsfähigkeit an die Bedürfnisse mehrerer Felder .. Nano-Beschichtungen und Quantengeräte werden weiterhin nachgewiesen .
Zr Sputtering -Zieleigenschaften
Gute Hochtemperaturleistung
Der Schmelzpunkt des Zirkoniums ist bis zu 1852 Grad . Es kann eine stabile physikalische Struktur in einer Hochtemperaturumgebung aufrechterhalten und ist nicht einfach zu schmelzen oder zu verformen .
Starke chemische Stabilität
Zirkonium kann der Korrosion einer Vielzahl von starken Säuren, starken Alkalien und Meerwasser bei Raumtemperatur widerstehen, und auf der Oberfläche ist ein dichtes Zro₂ -Passivierungsfilm leicht gebildet, um eine weitere Korrosion zu verhindern. .
Ausgezeichnete elektrische und optische Eigenschaften
Zirkonium kann Elektrizität leiten und verhindern, dass Metallionen diffundieren.
Starke Sputterleistung
Die Reinheit kann normalerweise über 99 . 5%erreichen und durch Schmieden, Rollen und andere Prozesse zu Zielen verschiedener Formen in Zielen verschiedener Formen verarbeitet werden und ist für verschiedene Sputtergeräte geeignet.
Zirkoniumzieldimension
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Grad |
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Technik |
Heiße isostatische Pressung, Getreideverfeinerung, Sintern, Schmieden, Glühen |
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Reinheit |
99.95% |
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Dicke |
3mm -40 mm |
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Durchmesser |
50-300 mm |
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Schmelzpunkt |
1857 Grad |
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Dichte |
6,94 g/cm3 |
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Form |
Runde Scheibe |
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Oberfläche |
Polieren, Schleifen |
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Zertifizierung |
ISO9001 |
Anwendung
Zirconium Metal Sputter Target is widely used in microelectronics, the semiconductor manufacturing industry (preparation of gate electrodes and metal interconnect layers), the aerospace industry (high-temperature components and structural materials), the optical and optoelectronic industry (high-quality optical films), and the Zirconium Metal Sputter Target. The nuclear energy field (fuel cladding materials und Kontrollstangenmaterialien für Kernreaktoren), das medizinische Feld (Zielteile von Röntgenröhrchen), mechanische Herstellungswerkzeuge (wea-resistente Beschichtungen) Dekorative Vorräte (dekorative ästhetische Beschichtungen) und andere Branchen .}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}
Verfahren
Unser Unternehmen produziert Zirkoniumziele mit hoher Reinheit durch Pulverpressung, Schmelzen des Hochtemperaturofens, Schimmelpilzgusss, wiederholtes Rollen, Oberflächenpolierbehandlung, strenge Qualitätskontrolle und andere Prozesse . Die Reinheit und Einheitlichkeit des Ziels entsprechen den Anforderungen der High-Tech-Anwendungen .
1. Pulvermetallurgie (gemeinsamer Prozess)
Pulvering: Schwammzirkonium wird durch mechanisches Quetschen, Hydrierung-Dehydrogenierung (HDH) und andere Methoden . zu Zirkoniumpulver verarbeitet. .
Drücken: Das Zielrose wird durch kaltes Isostat -Drücken oder Komprimierungsform in einer Form . erhalten
Sintering: Hochtemperatursintern in einer Vakuum- oder Inertatmosphäre zur Verbesserung der Dichte .
2. Schmelz- und Casting-Methode (anwendbar für große Ziele)
Vakuumbogen Schmelzen: Schwamm Zirkonium- oder Zirkoniumblöcke werden in einem Vakuumbogenofen geschmolzen, um Gasverunreinigungen zu entfernen und in Ingots zu gießen .
Schmieden und Rollen: Die Barren sind heiß geschmiedet und kalt, um die Kornorientierung zu verbessern und sie in die gewünschte Form . zu verarbeiten
3. Bearbeitung und Oberflächenbehandlung
Schneiden Sie in bestimmte Größen, und die Oberfläche ist gemahlen und poliert, um die Rauheit zu verringern und Oberflächendefekte zu vermeiden, die die Ausgleichheit der Sputtern beeinflussen. .}
4. umfassende Qualitätsinspektion und Verpackung
Filme, die von Zirkonium Z702 Sputter Target gesputtert werden, können in die folgenden Kategorien unterteilt werden:
1. Zirkoniumnitrid (ZRN)
Farbe: Goldgelb
Bildungsmechanismus: Das Zirkoniumziel wird in einer Stickstoffumgebung gesputscht, um ein Zirkoniumnitrid (ZRN) -Beschicht zu erzeugen.
Anwendung: ZRN -Beschichtung hat die Eigenschaften von hoher Härte, guter Verschleißfestigkeit und Korrosionswiderstand und wird häufig in dekorativen Beschichtungen, Schneidwerkzeugen und Formen verwendet .
2. Zirkonium carbonitrid (ZRCN)
Farbe: Tiefes Schwarz
Bildungsmechanismus: Sputter -Zirkoniumziele in einer gemischten Atmosphäre aus Stickstoff und Methan, um ein Zirkonium -Carbonitrid (ZRCN) -Booking zu erzeugen. . Erhöht den Kohlenstoffgehalt macht die Beschichtung Farbänderung zu tiefen Schwarz, während die Härte verbessert wird und Widerstand .}}}}}}}}}}}..
Anwendung: ZRCN-Beschichtung wird für Hochleistungs-Schneidwerkzeuge und Verschleiß resistente mechanische Teile verwendet und bietet einen hervorragenden Verschleiß- und Korrosionswiderstand .
3. Zirkoniumoxid (zro₂)
Farbe: transparent oder weiß
Bildungsmechanismus: Die PVD -Beschichtung wird in einer Sauerstoffumgebung durchgeführt, um ein Zirkoniumoxid (zro₂) zu bilden.
Anwendung: ZRO₂-Beschichtung wird in hohen Temperaturumgebungen, elektronischen Geräten und medizinischen Keramiken häufig verwendet. .
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Fall
Zirkonium 702 runde Sputterziel, Zirkoniumziel in die Niederlande
Anfang Januar haben wir einen Durchbruch in unserer Zusammenarbeit mit niederländischen Kunden für Zielprodukte erzielt. Bei der Verkäufe und Produktion von Metallzielen und hat eine Qualitätszertifizierung von ISO9001 erhalten, wobei das von unserem Unternehmen produzierte Zirkoniumziel hohe Qualitätskontrolle aufrechterhalten wird Anwendungen .
Qualifikation
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