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Sputtertarget aus Titan-Aluminium (Ti-Al)-Legierung
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Sputtertarget aus Titan-Aluminium (Ti-Al)-Legierung

Sputtertarget aus Titan-Aluminium (Ti-Al)-Legierung

Sputtertarget aus Titan-Aluminium (Ti-Al)-Legierung Beschreibung Die Hauptfunktion des Sputtertargets besteht darin, einen dichten Film auf dem Werkstück abzuscheiden, um die Verschleißfestigkeit und Lebensdauer des Werkstücks zu verbessern. Es gibt zwei Methoden zur Herstellung von Titan-Aluminium (Ti-Al)-Legierung Sputtering ...
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Product Details ofSputtertarget aus Titan-Aluminium (Ti-Al)-Legierung

Titan-Aluminium (Ti-Al)-Legierung Sputter Target Beschreibung

Die Hauptfunktion des Sputtertargets besteht darin, einen dichten Film auf dem Werkstück abzuscheiden, um die Verschleißfestigkeit und Lebensdauer des Werkstücks zu verbessern. Es gibt zwei Verfahren zur Herstellung von Titan-Aluminium (Ti-Al)-Legierungs-Sputtertargets: heißisostatisches Pressen und Schmelzen. Ersteres strebt eine höhere Dichte und Festigkeit an, während letzteres eine höhere Reinheit erreichen kann und unterschiedliche Herstellungsverfahren entsprechend unterschiedlichen Anwendungsszenarien ausgewählt werden können. Sputtertargets aus einer Titan-Aluminium-Legierung (Ti-Al) eignen sich sehr gut für verschiedene metallurgische Werkzeugbeschichtungen, Beschichtungen von Flachbildschirmen (z. B. Uhren, Mobiltelefone und Computer) und dekorative Beschichtungen und werden auch häufig im Bereich Ionensputtern und in der Elektronik verwendet Industrie.

Eigenschaften von Sputtertargets aus Titan-Aluminium-Legierung (Ti-Al):

1. Kleinere Korngröße und gleichmäßigere mikroskopische innere Struktur

2. Hohe Qualität, hohe Reinheit, gleichmäßige Struktur, lange Lebensdauer, gute Korrosionsbeständigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit und hohe Kostenleistung

3. Es kann dem Werkzeug helfen, einen höheren Vorschub, eine bessere Schnittleistung, eine längere Lebensdauer und eine höhere Metallabtragsrate zu erzielen

4. Kann gute Härte, hohe Helligkeit, Korrosionsbeständigkeit, gute Lichtbeständigkeit und dauerhaften Film abscheiden


Sputtertarget aus Titan-Aluminium (Ti-Al)-LegierungSpezifikationen:

Klasse

AlTi 25/75, AlTi 30/70, AlTi 40/60 usw.

Technik

Heißisostatisches Pressen, Sintern, Schmieden, Glühen

Reinheit

99,5-99,9 Prozent

Typ

Planares Sputtertarget, rotierendes Sputtertarget, Acr-Kathode.

Dicke

3mm-30mm

Länge

10 mm -2000 mm

Durchmesser

Kleiner oder gleich 300 mm

Dichte

3,4 g/cm3

Form

Scheiben, Platten, Säule, Stufe, Rechteck, Rohr

Oberfläche

Poliert, alkalische Reinigung, Schleifen, Schwarzoxid usw.

Lieferzeit

15-20 Tage

Zertifizierung

ISO9001


Titan-Aluminium (Ti-Al) Legierungs-Sputter-Target-Bilder:

Titanium Aluminum Alloy Sputtering Target

Titanium Aluminum Sputter Target

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