Planares Sputtertarget aus Chrom

Merkmale und Anwendung des planaren Chrom-Sputtertargets

Das ursprüngliche Chromelement muss durch eine Reihe von Prozessen wie Hochtemperaturschmelzen, Raffinieren und Elektrolyse gereinigt werden. Anschließend wird das gereinigte Chrommaterial durch thermische Verarbeitung in die erforderliche Zielform und -größe gebracht. Chromium Planar Sputtering Target besteht normalerweise aus hochreinem Chrompulver. Es wird häufig als Verdampfungsquelle für den Oberflächenbeschichtungsprozess verwendet. Es kann häufig in Schlössern, Hardware-Werkzeugen, Lampen, mechanischen Messern, Gehäusen von High-Tech-Produkten sowie Auto- und Motorradteilen verwendet werden. Warten. Chrom hat einen hohen Schmelzpunkt und eine hohe Oxidationsbeständigkeit, wodurch das Chromium Planar Sputtering Target eine hervorragende Leistung in Umgebungen mit hohen Temperaturen beibehält. Daher eignet es sich hervorragend zum Auftragen von Chrombeschichtungen auf empfindliche und wichtige Teile, um die Lebensdauer wichtiger Geräte zu verlängern. Chromium Planar Sputtering Target kann auch für die physikalische Abscheidung von Dünnschichttechnologien in der Photovoltaikzellenherstellung, der Automobilindustrie, der Luft- und Raumfahrtindustrie sowie für elektronische Komponenten, Displays und mikroelektronische Geräte verwendet werden.

Technische Daten des Chrom-Planar-Sputtertargets:

Chrom-Planar-Sputtertarget-Bilder:

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