Implantatteil aus schwerer Wolframlegierung
Beschreibung des Implantatteils aus schwerer Wolframlegierung
Die Halbleiter-Ionenimplantationstechnologie ist eine Art Hochtechnologie zur Materialoberflächenmodifikation, die in großem Umfang bei der Dotierung von Halbleitermaterialien und der Oberflächenmodifikation von Metallen, Keramiken, Polymeren usw. eingesetzt wird und zu einem unverzichtbaren Mittel für moderne Großanwendungen geworden ist. Herstellung integrierter Schaltkreise im großen Maßstab. Implantatteile aus schwerer Wolframlegierung werden im Allgemeinen nach dem Sintern, Schmieden, Walzen und Bearbeiten aus einer Wolframlegierung hergestellt. Es bietet die Vorteile einer hohen Dichte, guter mechanischer Eigenschaften, starker Korrosionsbeständigkeit, hoher Zugfestigkeit, starker Hitzeschockbeständigkeit, guter Verschleißfestigkeit, Ungiftigkeit, Umweltschutz und langer Lebensdauer. Das Implantatteil aus schwerer Wolframlegierung kann die Ausstoßrichtung des Ionenstrahls beibehalten, die Haltbarkeit der Komponente erhöhen und den Zweck der Änderung der Leitfähigkeit von Halbleiterbauelementen und Transistorstrukturen verwirklichen. Implantatteile aus schwerer Wolframlegierung können zur Herstellung verschiedener Halbleiterbauelemente wie Transistoren, integrierte Schaltkreise, mikroelektronische Geräte, Solarzellen usw. verwendet werden.
Technische Daten des Implantatteils aus schwerer Wolframlegierung:
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Grad |
WMo,WNiFe |
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Technik |
Walzen, Schmieden, Abflachen, Glühen, maschinelle Bearbeitung |
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Schmelzpunkt |
3410 Grad |
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Reinheit |
Größer oder gleich 95 Prozent |
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Größe und Form |
Nach Zeichnungen |
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Maximaler Außendurchmesser |
800mm |
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Dichte |
19,3 g/cm3 |
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Oberfläche |
Polieren, chemische Reinigung, Pulverbeschichtung usw. |
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Norm |
ASTM B777, DIN, GB, ISO, JIS |
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Zertifizierung |
ISO9001 |
Bilder von Implantatteilen aus schwerer Wolframlegierung:


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