Hochreine Hafniumdrähte

Beschreibung der hochreinen Hafniumdrähte

Beim Plasmaschneiden mit unterschiedlichen Arbeitsgasen können alle Arten von Metallen geschnitten werden, die beim Brennschneiden schwer zu schneiden sind, insbesondere bei NE-Metallen (Edelstahl, Aluminium, Kupfer, Titan, Nickel). Der Elektrodenkörper des Ionenschneidkopfes besteht aus Kupfer, und der mittlere Kern besteht aus zwei Arten von Hafniumdraht und Zirkoniumdraht. Die Herstellung von hochreinem Hafniumdraht erfordert Prozesse wie Hochtemperaturschmieden, Walzen, Hämmern, Drahtziehen und Polieren und muss vor der Verarbeitung in einem Elektronenstrahlofen gereinigt werden. Hochreiner Hafniumdraht hat die Eigenschaften eines hohen Schmelzpunkts, einer hohen thermischen und elektrischen Leitfähigkeit, einer starken Oxidationsbeständigkeit und einer geringen Elektronenemissionsleistung, was dazu beitragen kann, dass Plasmaschneidmaschinen eine hervorragende Leistung erbringen und die Verarbeitungsgenauigkeit und -effizienz weiter verbessern. Darüber hinaus eignen sich hochreine Hafniumdrähte gut für den Einsatz in Halbleiter-, CVD- (Chemical Vapor Deposition) und PVD-Prozessen (Physical Vapor Deposition) sowie als Sauerstoff- und Stickstofffänger in gasgefüllten und Glühlampen.

Spezifikationen für hochreine Hafniumdrähte:

Bilder aus hochreinen Hafniumdrähten:

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