Rundes Sputtertarget aus Zirkonium 702

Beschreibung des runden Sputtertargets aus Zirkonium 702

Bei der Dünnfilmabscheidung (Beschichtung) handelt es sich um den Prozess der Bildung und Abscheidung dünner Filmbeschichtungen auf Substratmaterialien, die zur Änderung oder Verbesserung bestimmter Elemente der Substrateigenschaften verwendet werden können. Es ist ein wichtiger Fertigungsschritt bei der Herstellung vieler optoelektronischer, Halbleiter- und medizinischer Geräte und Produkte. Das runde Sputtertarget aus Zirkonium 702 ist das am häufigsten verwendete Target im Beschichtungsprozess. Es kann das Substrat mit einer verschleißfesten Beschichtung, einer reflektierenden Beschichtung, einer leitfähigen Beschichtung, einer korrosionsbeständigen Beschichtung oder einer dekorativen Beschichtung beschichten. Je höher die Reinheit des Materials, desto größer sind Haftung, Verschleißfestigkeit und Lebensdauer der Beschichtung und desto stärker ist die Schutzwirkung auf das Produkt. Das runde Sputtertarget aus Zirkonium 702 bietet die Vorteile geringer Dichte, hoher spezifischer Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit, hoher Temperaturbeständigkeit, Verschleißfestigkeit, ausgezeichneter Verarbeitungsleistung, ungiftig, nicht magnetisch, kleiner thermischer Neutronenabsorptionsquerschnitt und langer Lebensdauer. usw. und kann in großem Umfang verwendet werden. Geeignet für die Beschichtungsverarbeitung von elektronischen Produkten, Faserlasern, LED-Anzeigen, Mikroskopen, Halbleiterlasern und anderen Präzisionsinstrumenten. Bei Bedarf können Sie uns gerne per E-Mail kontaktieren.

Technische Daten des runden Sputtertargets aus Zirkonium 702:

Bilder von runden Sputterzielen aus Zirkonium 702

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