Wolfram-Titan-Sputtering-Target

Wolfram-Titan-Sputtering-Target

FANMETAL liefert das W-Ti-Legierungs-Wolfram-Aluminium-Sputtertarget, das in PVD-Beschichtungssystemen auf dem Gebiet der Halbleiter verwendet wird. Ti-Gehalt 10 % ~ 50 %, normalerweise liefern wir die Zusammensetzung WTi 90:10. Wir bieten auch Targets für andere Metalle und Verdampfungsmaterial mit hoher Reinheit von 99,9999 Prozent, Edelmetalltargets (Au, Ag, Pt), Target-Bonding-Service, Tiegelauskleidungen (Kupfer, Molybdän, Wolfram usw.)

Wolfram-Titan-Sputtering-Target-Prozess:

HP-Heißpresssintern, Hochdruck- und Hochtemperaturisolierung, produzieren eine Wolfram-Titan-Legierung mit guter Dichte. Die Dichte erreicht über 99,5 Prozent, Präzisionsbearbeitung, gute Dichte, gute Reinheit und gute Oberflächengüte.

Der Hauptgrund, warum der Halbleiterchip eine neue Ziel-Wolfram-Titan-Legierungsbarriereschicht und als Diffusionsbindungsschicht wählt, ist die Legierung mit guter Oberflächenhaftungsfähigkeit und ausgezeichneten Wärmeableitungseigenschaften. Auf diese Weise wird das hergestellte Produkt eine höhere Gesamtleistung haben.

Wolfram-Titan-Sputtering-Target Bild:

Wolfram-Titan-Sputtering Target ist eine Legierung, die die Vorteile der Übergangsmetalle Wolfram und Titan aufweist. Es hat eine höhere Dichte und Reinheit, eine bessere Korrosionsbeständigkeit und kleinere Volumenausdehnungseffekte, wodurch die Anzahl der Änderungen im Herstellungsprozess effektiv reduziert werden kann. Die Bildung von mittleren Partikeln kann erfolgreich hochwertige- Filme herstellen

Beliebte label: Wolfram-Titan-Sputtering-Target, Lieferanten, Hersteller, Fabrik, kundenspezifisch, Großhandel, Preis, Angebot, zu verkaufen