Titan-Aluminium-Targets
Beschreibung der Titan-Aluminium-Ziele
Aluminium zeichnet sich durch einfache Abscheidung, hohe elektrische Leitfähigkeit, gute Wärmeleitfähigkeit, Haftung auf dem Substrat und niedrige Kosten aus, während Titan eine gute Korrosionsbeständigkeit und nichtmagnetische Eigenschaften aufweist. Daher sind Titan-Aluminium-Targets, die aus beiden bestehen, die wichtigsten Verbrauchsmaterialien High-Tech-Industrien oder Elektrotechnik in der Sputterverarbeitung. Titan-Aluminium-Targets können die Härte und Lebensdauer von Schneidwerkzeugen verbessern und werden häufig in Hardware-Werkzeugbeschichtungen, dekorativen Beschichtungen, Flachdisplaybeschichtungen, PVD- und CVD-Verarbeitung, Halbleiterkomponenten sowie verschiedenen Magnetron-Sputtermaschinen und Ionenplattierungsmaschinen verwendet.
Titan-Aluminium-Targets können durch Elektronenstrahlschmelzen und Vakuum-Lichtbogenschmelzen hergestellt werden. Bei der Verarbeitung müssen nicht nur die Materialreinheit, Dichte und Korngröße streng kontrolliert werden, sondern auch auf den Wärmebehandlungs- und Umformprozess sollte geachtet werden. Umweltbedingungen.
Spezifikationen für Titan-Aluminium-Zielscheiben:
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Grad |
TiAl25/75,30/70,40/60 |
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Technik |
Heißisostatisches Pressen, Schmelzen, Sintern, Schmieden, Glühen |
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Reinheit |
99,5-99,9 Prozent |
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Dicke |
3 mm-30mm |
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Länge |
10 mm-2000mm |
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Durchmesser |
<500 mm |
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Dichte |
3,4 g/cm3 |
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Form |
Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen |
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Oberfläche |
Poliert, alkalisch gereinigt, geschliffen, brüniert usw. |
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Lieferzeit |
20-30 Tage |
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Zertifizierung |
ISO9001 |
Bilder von Titan-Aluminium-Zielscheiben:]


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