PVD-Targets aus Titan-Aluminium-Legierung

Beschreibung der PVD-Targets aus Titan-Aluminium-Legierung

Das Beschichtungsziel ist eine Sputterquelle, die durch Sputtern unter geeigneten Prozessbedingungen durch Magnetronsputtern, Multi-Arc-Ionenplattieren oder andere Arten von Beschichtungssystemen verschiedene funktionelle Filme auf dem Substrat bildet. Vereinfacht ausgedrückt ist das Zielmaterial das Zielmaterial, das von geladenen Teilchen mit hoher Geschwindigkeit bombardiert wird. PVD-Targets aus Titan-Aluminium-Legierung haben eine bessere mechanische Festigkeit, bessere Korrosionsbeständigkeit, bessere Biokompatibilität, höhere Ermüdungsbeständigkeit, hohe Beschichtungsleistung, lange Lebensdauer und Schlagfestigkeit als andere Metalltargets. Lieber warten. PVD-Targets aus Titan-Aluminium-Legierung werden häufig durch Schmelzgussverfahren und Pulversinterverfahren hergestellt und können in vielen Vakuumbeschichtungsbereichen wie Dekoration, Formenverarbeitung, Glas, elektronische Geräte, Halbleiter, magnetische Aufzeichnung, Flachbildschirme, Solarzellen usw. eingesetzt werden. usw. Unser Unternehmen kann flache Targets (rechteckige Targets und Bogentargets) und röhrenförmige Targets liefern. Bei Bedarf können Sie uns gerne per E-Mail kontaktieren.

Spezifikationen für PVD-Targets aus Titan-Aluminium-Legierung:

Bild von PVD-Zielen aus Titan-Aluminium-Legierung

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