Sputtertarget aus reinem Zirkonium

Eigenschaften und Anwendung von Sputtertargets aus reinem Zirkonium

Aufgrund seiner hervorragenden Korrosionsbeständigkeit wird Zirkonium häufig in der chemischen Industrie eingesetzt, wo korrosive Bedingungen herrschen. Darüber hinaus wird es aufgrund seiner überlegenen Hochtemperatureigenschaften in Verbindung mit seiner geringen Neutronenabsorption häufig beim Bau von Kernreaktoren verwendet. Wenn metallisches Zirkonium zu einem reinen Zirkonium-Sputtertarget verarbeitet wird, kann die Zirkonium-Sputterbeschichtung verwendet werden, um eine Schicht aus metallischem Zirkoniumfilm auf dem Zielsubstrat zu bilden, und es wird häufig in dekorativen Beschichtungen, Halbleitern, optischen Beschichtungen und Schneidwerkzeugen verwendet. Sputtertargets aus reinem Zirkonium können wichtigen Komponenten in der chemischen Industrie und der Luft- und Raumfahrtindustrie einen sehr guten Korrosionsschutz sowie Hochtemperatur- und Niedertemperaturbeschichtungsschutz bieten, der die Korrosionsbeständigkeit von Titanmaterialien in gewissem Maße übertroffen hat. Zu beachten ist, dass während des Produktionsprozesses auf die Entfernung von Verunreinigungen und Dekontamination geachtet werden sollte. Die Reinheit des Targets hängt mit seiner eigenen hervorragenden Leistung und Beschichtungsqualität zusammen.

Spezifikationen des reinen Zirkonium-Sputtertargets:

Reine Zirkonium-Sputtering-Target-Bilder:

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