Metalltargets bestehen aus einem einzelnen Metall oder einer Metalllegierung, die speziell verarbeitet und veredelt wurde, um den Anforderungen an hohe Reinheit und spezifische Mikrostruktur zu entsprechen. Zu den gängigen Metallzielen gehören Kupfer, Aluminium, Silber, Titan und deren Legierungen. Metalltargets werden aufgrund ihrer einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften ausgewählt, um die Leistung und Effizienz von Prozessen wie Ionenimplantation und Dünnschichtabscheidung zu optimieren. Unser Unternehmen kann Ihnen helfenTitan-Ti-Sputtertarget, Sputtertargets aus 99,95 % ZirkoniumWenn Sie Chrom-Ziele und andere Metall-Ziele benötigen, senden Sie uns bitte eine E-Mail.
Keramische Targets bestehen aus hochreinen nichtmetallischen Verbindungen, darunter Oxide, Silikate, Nitride usw. Diese Targets werden durch Hochtemperatur-Sinterverfahren hergestellt, um feste Materialien mit komplexen chemischen und physikalischen Eigenschaften zu bilden. Ihre einzigartige Zusammensetzung verleiht ihnen einen unersetzlichen Platz in High-Tech-Anwendungen, insbesondere in der Halbleiterfertigung, optoelektronischen Materialien und der Dünnschichttechnologie.
1. Kosten und Vorbereitungsschwierigkeiten
Die Herstellung von Keramiktargets ist schwierig, nicht nur wegen des erforderlichen Hochtemperatur-Sinterprozesses, sondern auch wegen der Notwendigkeit, deren Reinheit und Mikrostruktur zu kontrollieren, um die Leistung des Endprodukts sicherzustellen. Im Gegensatz dazu ist der Schmelz- und Verarbeitungsprozess von Metalltargets relativ einfach, mit hoher Plastizität und einfacher Formung und Verarbeitung.
Aus Kostensicht sind Metalltargets aufgrund des relativ einfachen Prozesses der Metallgewinnung, -verarbeitung und -aufbereitung in der Regel günstiger als Keramiktargets. Die Herstellung von Keramiktargets erfordert jedoch einen komplexeren Prozess
2. Physikalische und chemische Eigenschaften
Aufgrund ihrer einzigartigen chemischen Struktur weisen Keramiktargets in der Regel eine höhere Härte und einen höheren Schmelzpunkt auf, wodurch sie bei hohen Temperaturen stabiler und für Hochtemperatur-Filmabscheidungsprozesse geeignet sind. Besonders bei Anwendungen mit hohen Temperaturen oder korrosiven Umgebungen. Sie reagieren nicht so leicht mit anderen Elementen und bewahren so die Reinheit und Stabilität des Materials.
Metalltargets eignen sich für eine Vielzahl komplexer Formvorbereitungsanforderungen, insbesondere hinsichtlich der thermischen und elektrischen Leitfähigkeit, die Keramiktargets weit überlegen sind, was sie für Anwendungen bevorzugt, die ein gutes Wärmemanagement und gute elektrische Eigenschaften erfordern. Unter bestimmten Bedingungen kann es jedoch oxidieren oder korrodieren.
3. Anwendungsbereich
Metalltargets werden häufig in Situationen eingesetzt, in denen eine gute Leitfähigkeit und Wärmeleitfähigkeit erforderlich sind, beispielsweise bei der Herstellung leitfähiger Filme, spiegelnder Reflexionsfilme und der Herstellung magnetischer Materialien. Ihre hervorragende Plastizität verschafft ihnen auch einen Vorteil bei der Herstellung von Zielen mit komplexen Formen.
Aufgrund ihrer hohen Reinheit, chemischen Stabilität und ihres hohen Schmelzpunkts finden Keramiktargets einzigartige Anwendungsmöglichkeiten in der Halbleiterfertigung, der Hochtemperatur-Dünnschichtabscheidung und der Herstellung photoelektrischer Materialien. Für diese Anwendungen sind häufig Materialien mit extrem hohen Leistungsstandards erforderlich.
