Das Nb2O5-Sputtertarget ist ein planares Target, das durch einen Pulvermetallurgieprozess aus Nioboxidmaterial hergestellt wird. Der dadurch gebildete Oxidfilm ist von gleichmäßiger Qualität, reagiert nicht mit anderen Stoffen in der Luft und hat eine dauerhafte Schutzwirkung. Nb2O5-Sputtertargets werden hauptsächlich in oberflächentechnischen Materialien wie dem Schiffbau, der chemischen Industrie, der Flüssigkristallanzeige (LCD) und der Industrie für hitzebeständige, korrosionsbeständige und hochleitfähige Beschichtungen, der Dünnschicht-Solarindustrie und der Glasindustrie mit niedrigem Emissionsgrad verwendet , Flachbildschirmindustrie, optische Beschichtungsindustrie, Werkzeug- und dekorative Beschichtungsindustrie.

Merkmale des Nb2O5-Sputtertargets

1. Optische Eigenschaften: Der Nioboxidfilm verfügt über hervorragende optische Eigenschaften, einen geringen optischen Wellenleiterverlust und eine hervorragende elektrochrome Leistung. Aus diesem Material können hochleistungsfähige optische Beschichtungsprodukte hergestellt werden.

2. Chemische Stabilität und elektrische Eigenschaften

Nioboxid weist eine gute chemische Stabilität und elektrische Eigenschaften auf und eignet sich für Anwendungen, die eine hohe Stabilität und hervorragende Leitfähigkeit erfordern.

3. Leistung bei hohen Temperaturen: Nioboxid hat einen sehr hohen Schmelzpunkt, der es ihm ermöglicht, in Umgebungen mit hohen Temperaturen eine gute Leistung aufrechtzuerhalten.

4. Hohe Reinheit und Konsistenz Die Reinheit von Niob-Targets kann mehr als 99,95 % erreichen, mit kleiner Korngröße, guter Rekristallisationsstruktur und guter triaxialer Konsistenz. Dadurch wird die Qualität des erzeugten Oxidfilms gleichmäßig und die Leistung stabil.

Nb2O5-Sputtertarget-Anwendung

1. Optische Beschichtung: bei der Herstellung von hochleistungsfähigem optischem Glas und in der Flachbildschirmindustrie. Es wird zur Herstellung von optischen Interferenzfiltern, elektrochemischen Filmen, Gassensoren usw. verwendet.

2. Industrie für Flachbildschirme: Wird zur Herstellung von AR-Filmen (Antireflexion und Antireflexion) verwendet, die die Lichtdurchlässigkeit von Anzeigegeräten erheblich erhöhen, Reflexionen reduzieren und Bilder klarer machen können.

3. Solarzellen: Das elektrische Filmsystem zur Herstellung von Dünnschichtsolarzellen trägt dazu bei, den Wirkungsgrad von Solarzellen zu verbessern.

4. Festplattenspeichertechnologie: Bei der Entwicklung von Festplatten mit hoher Dichte und großer Kapazität werden riesige magnetoresistive Filmmaterialien verwendet. Diese Materialien spielen eine Schlüsselrolle für die Lese- und Schreibleistung von Festplatten.

5. Architektur- und Automobilglasbeschichtung: Beschichtung, die für Architektur- und Automobilglas verwendet wird, um die UV-Beständigkeit und Wärmeisolationseigenschaften dieser Materialien zu verbessern.

Spezifikationen des Nb2O5-Sputtertargets:

Material	Nb2O5
Aussehen	Kristalliner Feststoff, grau-schwarz
Reinheit	Nb Größer oder gleich 99,95 %
Dichte	4,47 g/cm³
Größe	450 x 300 x 12 mm
Dicke	1-20mm
Schmelzpunkt	1512 Grad (2754 Grad F)
Form	Platten, Stufenziele
Zertifizierung	ISO9001

Nb2O5-Sputtertarget Bild

Niobium Oxide Nb2O5 Sputtering Targets

Niobium Oxide Target

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