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Yttrium -Aluminiumoxid -Sputterziele
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Yttrium -Aluminiumoxid -Sputterziele

Yttrium -Aluminiumoxid -Sputterziele

Yttrium -Aluminiumoxid -Sputter -Ziele sind eine Art Keramikziel aus Yttriumoxid und Aluminiumoxid durch einen bestimmten Prozess. Sie werden häufig in optischen Instrumenten, elektronischen Halbleitern, Luft- und Raumfahrt, mechanischer Verarbeitung und anderen Feldern verwendet, um dünne Filmbeschichtungen mit hoher Lichtübertragung, hoher Leitfähigkeit, Verschleißfestigkeit, Isolierung und anderen Eigenschaften herzustellen. Wir können auch Titanaluminium, Aluminiumsilizium, reines Chrom, reines Zirkonium und andere Legierungsziele bereitstellen. Wenn Sie Fragen zu den Details oder Lieferzeit dieses Produkts haben, zögern Sie nicht, sich unter admin@fanmetalloy.com mit uns in Verbindung zu setzen. Wir freuen uns auf Ihre Nachricht.
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Product Details ofYttrium -Aluminiumoxid -Sputterziele

Yttrium aluminium oxid spottering ziels Beschreibung

Materialauswahl und -verarbeitung

Herstellung von hochpurigen YAG -Pulver - kaltes isostatisches Pressen - Vakuumsintern - Schneiden - Schleifen und Polieren - Qualitätsinspektion.

Während der Verarbeitung sollte die Aufmerksamkeit auf Reinheit, Verunreinigungsgehalt, Gleichmäßigkeit der Partikelgrößenverteilung, geeigneter Kristallform und Verarbeitungsgenauigkeit geschenkt werden, die die endgültige Leistung und Qualität des Ziels beeinflussen.

Eigenschaften

Die einzelne stabile Kristallstruktur ist der Bildung eines gleichmäßigen, dichten und gut kristallinen Films auf dem Substrat förderlich.

Ausgezeichnete optische Eigenschaften, gute Lichtübertragung, niedriger Lichtabsorptionskoeffizient und niedriger Lichtverlust.

Hohe Härte, nicht leicht zu verformen, starker Verschleißfestigkeit und langes Lebensdauer

Gute Leitfähigkeit und chemische Stabilität, geeignet für eine Vielzahl verschiedener Sputterprozesse und Beschichtungsumgebungen.

Anwendung

Yttrium -Aluminiumoxid -Sputter -Ziele können häufig in der optischen Beschichtung, in integrierten Halbleiterkreisläufen, bei der Anzeigebeschichtung, der Magnetspeicherung, der Oberflächenbehandlung von Luft- und Raumfahrt -Teilen, der Beschichtung des Bearbeitungswerkzeugs, der Oberflächenmodifizierung von medizinischen Geräten und anderen Feldern verwendet werden.

1. Es kann verwendet werden, um verschiedene optische Filme wie Anti-Reflexionsfilm und reflektierender Film vorzubereiten, die auf optische Instrumente wie optische Linsen, Teleskope, Mikroskope usw. angewendet werden, um die Bildgebungsqualität und Leistung optischer Systeme zu verbessern.

2. Es wird verwendet, um Isolierung funktionelle Filme in integrierten Schaltungen einzureichen, wodurch die Integration und Zuverlässigkeit von Chips die Isolationsleistung zwischen Schaltkreisen und Genauigkeit der Signalübertragung gewährleistet wird.

3. Es kann verwendet werden, um Anti-Interferenz-Filme für magnetooptische Speichermedien vorzubereiten, die die Speicherdichte verbessern und die Geschwindigkeit und Stabilität der Datenübertragung sicherstellen können.

4. Hochleistungsfilme können die Härte, den Verschleißfestigkeit, die Korrosionsbeständigkeit und die thermische Stabilität von Flugzeugmotorenkomponenten verbessern, die Lebensdauer von Komponenten verlängern und die Zuverlässigkeit und Sicherheit in extremen Umgebungen gewährleisten.

 

Yttrium -Aluminiumoxid -Sputter -Zieldimension

Grad

Y3al5o12

Reinheit

99.9%-99.999%‌

Mohs Härte

8-8.5

Durchmesser

60mm -150 mm oder angepasst

Dicke

3-6 mm +2 mm

Dichte

4,56 g/cm3

Form

Runden

Lieferzeit

15-20 Tage

Zertifizierung

ISO 9001

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YAG Sputtering Targets

Yttrium Aluminum Oxide Sputtering Targets

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