Niobiumoxid -Sputterteller
Niobiumoxid -Sputterplatten Beschreibung
Materialauswahl und -verarbeitung
Nioboxid bezieht sich normalerweise auf Niob Pentoxid, nämlich NB2O5. Der NB2O5 -Film hat hervorragende optische Eigenschaften und einen niedrigen optischen Wellenleiterverlust und ist ein elektrochromes Material mit hervorragender Leistung. Bei der Herstellung von Zielmaterialien wird im Allgemeinen Pulvermetallurgie, PVD oder CVD -Technologie verwendet und kann gemäß den verschiedenen Anforderungen der Kunden für Leistung und Reinheit verarbeitet werden.
Eigenschaften
- Hochlichtübertragung, hoher Brechungsindex, ein Schlüsselmaterial für die AR -Filmproduktion
- Korrosionsbeständigkeit, Oxidationsresistenz, gute dimensionale Stabilität
- Hoher Schmelzpunkt, niedriger thermischer Expansionskoeffizient, hohe Härte
- Hohe Oberflächenfinish, hohe Qualität des abgelagerten Films
Anwendung
Niobiumoxid -Sputtertellerwerden hauptsächlich in Dünnfilmabscheidungsprozessen verwendet und können hochwertige Niob-Oxidfilme für die Verwendung in optischen Instrumenten, elektronischen Geräten, Solarzellen, Verarbeitungswerkzeugen und anderen Geräten ablegen. Im Allgemeinen spielen sie die Rolle von Anti-Reflexion, Antikorrosion, Isolierung und Leitfähigkeit.
Niobiumoxid -Sputterplattenspezifikationen:
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Material |
NB2O5 |
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Aussehen |
Kristalline feste, grauschwarze |
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Reinheit |
NB größer als oder gleich 99,95% |
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Dichte |
4,47G/cm3 |
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Größe |
Angepasst |
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Dicke |
1-20 mm |
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Schmelzpunkt |
1512 Grad (2754 Grad f) |
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Oberfläche |
Poliert, schwarz, eingelegt, alkalisch waschen |
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Form |
Platten, Stiefziele |
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Zertifizierung |
ISO9001 |
Niobiumoxid -Sputterplatten Bilder


FAQ
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