Nioboxid-Sputtering-Target

Nioboxid-Sputtering-Target

FANMETAL liefert das Nb2O5-Nioboxid-Sputtering-Target, das im PVD-Beschichtungssystem verwendet wird. Wir bieten auch Targets für andere Metalle und Verdampfungsmaterial mit hoher Reinheit von 99,9999 Prozent, Edelmetalltargets (Au, Ag, Pt), Target-Bonding-Service, Tiegelauskleidungen (Kupfer, Molybdän, Wolfram usw.), keramische Sputtertargets.

1. Nioboxid-Sputtering-Target-Anwendung

Wird zur Herstellung von Nb2O5-Folien verwendet, die hauptsächlich für AR-Foliensysteme aus optischem Glas, Touchscreens und Low--Glasfoliensystemen verwendet werden.

2. Chemische Zusammensetzung und physikalische Eigenschaften des Produkts (Physical and Chemical Properties)

Chemische Zusammensetzung: Nb2Ox (x<>

Widerstand (20 Grad): Kleiner oder gleich 0,35 Ω. cm

Formgebungsverfahren: Thermisches Spritzen (HPS)

Density:>4.3g/cm3 (>97 Prozent)

Reinheit: Größer oder gleich 99,95 Prozent

Nioboxid-Sputtering-Target Bild:

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