Platinziel
Platin -Zielbeschreibung
Materialauswahl und -verarbeitung
Wir verwenden hochreines Platinmaterial durch Vakuuminduktionsschmelzen oder Elektronenstrahlschmelzen und fälschen, rollen, schneiden, glühen, mahlen, polieren und reinigen sie vor der Produktion. Schließlich werden wir vor dem Verpacken und Versand eine umfassende Qualitätsinspektion durchführen. Alle unsere Produkte sind ISO -zertifiziert und können mit Zuversicht bestellt werden.
Eigenschaften
- Hohe Reinheit und niedrige Verunreinigungen stellen sicher, dass der hinterlegte Platinfilm eine gute Leistung und Stabilität hat.
- Es kann eine gute chemische Stabilität in korrosiven Medien wie hoher Temperatur, Luftfeuchtigkeit, Säure und Alkali aufrechterhalten.
- Hoher Schmelzpunkt, gute dimensionale Stabilität bei hoher Temperatur und nicht leicht zu verformen.
- Der abgelagerte Film hat die Vorteile einer guten Haftung, einer geringen Resistenz und einer guten Oxidationsresistenz.
- Ausgezeichnete elektrische und thermische Leitfähigkeit, hoher Sputter -Effizienz.
Anwendung
Platin -Ziel wird häufig in Halbleitern, integrierten Schaltungen, Solarzellen, optischen Instrumenten, Sensoren, elektronischen Geräten und anderen Feldern verwendet.
Semiconductor Chip Manufacturing
Die in Kupferverbindungsverfahren verwendeten Materialdaten und Transistorelektrodenmaterialien können den Stromverbrauch und die Betriebsleistung des Chips reduzieren.
Beschichtung optischer Geräte
Wird zur Herstellung von Elektroden oder oberflächenreflektierenden Schichten und lichtübergreifenden Schichten verwendet, um den normalen Betrieb von optoelektronischen Geräten in der Lasertechnologie, der astronomischen Beobachtung und der spektralen Analyse sicherzustellen.
Gas und Biosensoren
Es wird verwendet, um die Empfindlichkeit interner Komponenten zu verbessern und als Arbeitelektrode zu dienen, um elektrochemische Reaktionen zwischen Biomolekülen zu erfassen und die Erkennungsleistung zu verbessern.
Neue Energiefahrzeuge
Katalysatoren zur Herstellung von Wasserstoffbrennstoffzellen verwenden Magnetron-Sputtertechnologie, um eine nanokatalytische Schicht zu bilden, um die Wasserstoff-Sauerstoff-Reaktion zu beschleunigen und die Kosten zu senken.
Platin -Zielspezifikationen:
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Material |
Pt |
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Reinheit |
99.95% |
| Durchmesser |
50 mm |
| Dicke | 0. 1mm |
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Dichte |
21,47G/cm3 |
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Oberfläche |
Polierte Alkalireinigung, chemische Reinigung |
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Standard |
ASTM, GB |
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Lieferzeit |
20 Tage |
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Zertifizierung |
ISO 9001 |
Platin -Zielbilder


Produktqualifikation

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