Sputtertargets aus Metall werden hauptsächlich in der Elektronik- und Informationsindustrie eingesetzt, beispielsweise für integrierte Schaltkreise, Informationsspeicher, LCD-Bildschirme, Laserspeicher, elektronische Steuergeräte usw. Sie können auch häufig im Bereich der Glasbeschichtung und verschleißfester Werkzeuge eingesetzt werden Fertigungs- und Hochtemperaturverarbeitungsindustrien. , hochwertige Dekorationsartikel und andere Branchen. FANMETAL verfügt über langjährige Erfahrung in der Herstellung von Nichteisenmetallprodukten und verfügt außerdem über fortschrittliche Verarbeitungsanlagen. Es kann Kunden im In- und Ausland mit hochwertigen und kostengünstigen Metall- oder Legierungszielprodukten wie zNickeltargets, Chrom-Targets, Molybdän-Targets, Wolfram-Targets,Titan-Aluminium-Sputtertargets,usw.
1. Reinheit
Bei allen Metallen ist die Reinheit einer der wichtigsten Leistungsindikatoren des Zielmaterials. Die Reinheit des Targetmaterials hat großen Einfluss auf die Leistung des Films. Abhängig von der tatsächlichen Anwendungsausrüstung sind jedoch auch die Reinheitsanforderungen an das Zielmaterial unterschiedlich. Beispielsweise werden in hochpräzisen elektronischen Geräten hochreine Beschichtungstargets benötigt.
2. Gehalt an Verunreinigungen
Nach einer Reihe von Zielprozessen sind Verunreinigungen im Zielfeststoff sowie Sauerstoff und Wasserdampf in den Poren die Hauptverschmutzungsquellen für abgeschiedene Filme. Da ihre Verwendungszwecke unterschiedlich sind, stellen Ziele für unterschiedliche Verwendungszwecke auch unterschiedliche Anforderungen an unterschiedliche Verunreinigungsgehalte. Beispielsweise stellen die derzeit in Halbleitern verwendeten Targets aus reinem Aluminium und Aluminiumlegierungen besondere Anforderungen an den Alkalimetallgehalt und den Gehalt an radioaktiven Elementen.
3. Dichte
Um die Poren im Targetfestkörper zu reduzieren und die Leistung des gesputterten Films zu verbessern, ist es im Targettechnologieprozess im Allgemeinen erforderlich, dass das Targetmaterial eine höhere Dichte aufweist. Denn die charakteristische Hauptdichte des Targets hat einen großen Einfluss auf die Sputterrate und beeinflusst die elektrischen und optischen Eigenschaften des Films. Je höher die Zieldichte, desto besser ist die Leistung des Films.
4. Korngröße und Korngrößenverteilung
Normalerweise hat das Targetmaterial eine polykristalline Struktur und die Korngröße kann zwischen Mikrometern und Millimetern liegen. Bei gleichem Targetmaterial ist die Sputterrate eines Targets mit feinen Körnern höher als die eines Targets mit groben Körnern; während ein Target mit einem kleineren Korngrößenunterschied (gleichmäßige Verteilung) eine gleichmäßigere Dickenverteilung des durch Sputtern abgeschiedenen Films aufweist.
